Amorphe optische Quarzglasplatte mit niedriger thermischer Expansionskoeffizient

Amorphes optischer Quarzglasplatte mit niedriger thermischer Expansionskoeffizienten ist ein spezielles industrielles technisches Glas, das hauptsächlich aus hohem Siliziumdioxid (SiO2) besteht. Diese Art von Glas spielt in vielen High-Tech-Feldern aufgrund ihrer hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften eine wichtige Rolle.

Die Haupteigenschaften optischer Quarzglasplatten sind:

Hohe Reinheit: Quarzglas hat eine sehr hohe Reinheit und wird hauptsächlich durch Schmelzen von reinem Quarz (wie Kristall, Quarzsand usw.) hergestellt.

Niedriger thermischer Expansionskoeffizient: Der lineare Expansionskoeffizient von Quarzglas ist sehr klein, nur 1/10 bis 1/20 gewöhnliches Glas, wodurch sie unter Temperaturänderungen eine gute dimensionale Stabilität beibehalten können.

Hochtemperaturwiderstand: Quarzglas hat einen hohen Wärmewiderstand, der bei Temperaturen von 1100 bis 1200 ° C üblicherweise verwendet wird und kurzfristig hohe Temperaturen von bis zu 1400 ° C standhalten kann.

Optische Leistung: Die optische Leistung von Quarzglas ist sehr zuverlässig, mit einer hervorragenden Durchlässigkeit im kontinuierlichen Wellenlängenbereich von Ultraviolett bis Infrarotstrahlung.

Chemische Stabilität: Quarzglas hat eine gute Resistenz gegen die meisten Säuren, außer Hydrofluorsäure und heiße Phosphorsäure.

Aufgrund dieser Eigenschaften wird Quarzglas in High-End-Laborgeräten, Extraktionsgeräten für spezielle hochreinheitliche Produkte und Felder, die ein ausgezeichnetes optisches Leistung erfordern, häufig eingesetzt. Es ist auch ein ideales Material für Raumfahrzeuge, Windkanalfenster und optische Systeme des Spektrophotometers.

Amorphe optische Quarzglasplatte mit niedriger thermischer Expansionskoeffizienten ist ein Hochleistungsmaterial mit breiten Anwendungsaussichten.