Hochreinheit Katalysatorträger Quarzglasrohr
Hochreinheit Katalysatorträger Quarzglasrohr ist ein wichtiges Material, das auf dem Gebiet der Katalysatorträger weit verbreitet ist.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
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Hochreinheit Katalysatorträger Quarzglasrohr
Hochreinheit Katalysatorträger Quarzglasrohr ist ein wichtiges Material, das auf dem Gebiet der Katalysatorträger weit verbreitet ist. Quarzglasrohre sind zu einem unverzichtbaren Trägermaterial in der Halbleiterindustrie und in anderen Bereichen geworden, für die aufgrund ihrer speziellen physikalischen Eigenschaften wie hoher Temperaturresistenz, Säure- und Alkali-Resistenz, niedriger Expansion und guter Lichtübertragung eine hohe Purity-Reaktionsumgebung erfordern. In der Halbleiterindustrie werden Quarzglasrohre in Batch-Schussöfen wie als hohe Purity-Reaktionskammern, Gas-/Flüssigeingänge oder Transportleitungen häufig verwendet. Darüber hinaus spielen Diffusionsrohre und Glockengläser aus Quarzmaterialien eine wichtige Rolle bei wichtigen Prozessen wie Diffusion, Oxidation, Ablagerung und Radierung von Halbleitern.
Hochreinheit Katalysatorträger Quarzglasrohr
Hochreinheit Katalysatorträger Quarzglasrohr ist ein wichtiges Material, das auf dem Gebiet der Katalysatorträger weit verbreitet ist. Quarzglasrohre sind zu einem unverzichtbaren Trägermaterial in der Halbleiterindustrie und in anderen Bereichen geworden, für die aufgrund ihrer speziellen physikalischen Eigenschaften wie hoher Temperaturresistenz, Säure- und Alkali-Resistenz, niedriger Expansion und guter Lichtübertragung eine hohe Purity-Reaktionsumgebung erfordern. In der Halbleiterindustrie werden Quarzglasrohre in Batch-Schussöfen wie als hohe Purity-Reaktionskammern, Gas-/Flüssigeingänge oder Transportleitungen häufig verwendet. Darüber hinaus spielen Diffusionsrohre und Glockengläser aus Quarzmaterialien eine wichtige Rolle bei wichtigen Prozessen wie Diffusion, Oxidation, Ablagerung und Radierung von Halbleitern.