Hochreinheit Halbleiterdiffusionsprozess Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiterdiffusionsprozess Quarzglasrohr ist eine spezielle Art von Quarzglas, die hauptsächlich für den Diffusionsprozess der Semiconductor -Herstellung verwendet wird.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
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Hochreinheit Halbleiterdiffusionsprozess Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiterdiffusionsprozess Quarzglasrohr ist eine spezielle Art von Quarzglas, die hauptsächlich für den Diffusionsprozess der Semiconductor -Herstellung verwendet wird.
Materialmerkmale: Das Quarzglasrohr mit hoher Reinheit des Halbleiterdiffusionsdiffusion besteht aus Siliziumdioxid mit hoher Purity und hat ausgezeichnete mechanische, thermische, optische und elektrische Eigenschaften. Diese Eigenschaften machen es für Anwendungen in Branchen wie Halbleitern, optischen Geräten, Telekommunikation und Sonnenenergie unverzichtbar.
Anwendungsfeld: In der Herstellung von Halbleiter werden hochreines Quarzglasrohre hauptsächlich für Gasverteilungssysteme in Diffusionsöfen verwendet. Sie können hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen standhalten, wodurch einheitlicher Luftstrom und Reaktionen gewährleistet werden, wodurch die Qualität und Effizienz von Halbleiterherstellungsprozessen verbessert werden.
Produktmerkmale: Quarzrohre der Halbleiterqualität haben eine hohe Reinheit, niedrige Hydroxylgruppen und Hochtemperaturwiderstand, was sie zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien macht.
Produktspezifikationen: Der Bereich des Außendurchmessers, die Wanddicke, Wandabweichung, Elliptizität und Krümmung von Quarzrohren der Halbleiterqualität sind im Detail angegeben, um deren Leistungs- und Anwendungsstabilität sicherzustellen.
Quarzglasrohre mit hoher Semikonduktor-Diffusionsprozess von hoher Reinheit spielen eine wichtige Rolle im Semiconductor Manufacturing-Bereich, und ihre einzigartigen Materialeigenschaften und ihre Anwendungsleistung machen sie zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
Hochreinheit Halbleiterdiffusionsprozess Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiterdiffusionsprozess Quarzglasrohr ist eine spezielle Art von Quarzglas, die hauptsächlich für den Diffusionsprozess der Semiconductor -Herstellung verwendet wird.
Materialmerkmale: Das Quarzglasrohr mit hoher Reinheit des Halbleiterdiffusionsdiffusion besteht aus Siliziumdioxid mit hoher Purity und hat ausgezeichnete mechanische, thermische, optische und elektrische Eigenschaften. Diese Eigenschaften machen es für Anwendungen in Branchen wie Halbleitern, optischen Geräten, Telekommunikation und Sonnenenergie unverzichtbar.
Anwendungsfeld: In der Herstellung von Halbleiter werden hochreines Quarzglasrohre hauptsächlich für Gasverteilungssysteme in Diffusionsöfen verwendet. Sie können hohen Temperaturen und korrosiven Umgebungen standhalten, wodurch einheitlicher Luftstrom und Reaktionen gewährleistet werden, wodurch die Qualität und Effizienz von Halbleiterherstellungsprozessen verbessert werden.
Produktmerkmale: Quarzrohre der Halbleiterqualität haben eine hohe Reinheit, niedrige Hydroxylgruppen und Hochtemperaturwiderstand, was sie zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien macht.
Produktspezifikationen: Der Bereich des Außendurchmessers, die Wanddicke, Wandabweichung, Elliptizität und Krümmung von Quarzrohren der Halbleiterqualität sind im Detail angegeben, um deren Leistungs- und Anwendungsstabilität sicherzustellen.
Quarzglasrohre mit hoher Semikonduktor-Diffusionsprozess von hoher Reinheit spielen eine wichtige Rolle im Semiconductor Manufacturing-Bereich, und ihre einzigartigen Materialeigenschaften und ihre Anwendungsleistung machen sie zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.