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Hochreinheit Halbleiter Wärmebehandlung Ofenprozess Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiter -Wärmebehandungsofenprozess -Quarzglasrohr ist ein sehr wichtiges Material im Semiconductor -Herstellungsprozess.
Luverre Quarz
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Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Hochreinheit Halbleiter Wärmebehandlung Ofenprozess Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiter -Wärmebehandungsofenprozess -Quarzglasrohr ist ein sehr wichtiges Material im Semiconductor -Herstellungsprozess. Diese Art von Quarzglasrohr wird hauptsächlich im Wärmebehandlungsprozess der Halbleiterherstellung verwendet, wie z. B. Diffusionsöfen, Oxidationsöfen usw.
Materialmerkmale: Das Quarzglasrohr mit hoher Purity-Halbleiter-Wärmebehandlungsprozess besteht hauptsächlich aus hochpurigen Siliziumdioxid, das hervorragende mechanische, thermische, optische und elektrische Eigenschaften aufweist. Aufgrund seiner einzigartigen Mikrostruktur weisen Quarzglasrohre eine ausgezeichnete spektrale Transparenz, extrem niedrige thermische Expansionskoeffizienten und Leitfähigkeit sowie eine ausstehende Strahlungswiderstand und eine lange Lebensdauer unter extremen Bedingungen auf.
Anwendungsbereiche: Halbleiter -Quarzglas wird in Halbleiter, Photovoltaik, optischer Faser, elektrischer Lichtquelle und anderen Feldern häufig verwendet. Insbesondere im ChIP -Herstellungsprozess, der das wertvollste Bereich in der Halbleiterindustrie ist, sind die Anforderungen an verwandte Materialien sehr streng.
Produktmerkmale: Quarzrohre der Halbleiterqualität haben eine hohe Reinheit, niedrige Hydroxylgruppen und Hochtemperaturwiderstand, was sie zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien macht. Beispielsweise erfordern Quarzrohre in Diffusionsöfen im Allgemeinen eine hohe Reinheit für Einlass und Auslass, um ein einheitliches Gasmischen zu gewährleisten und somit die Zubereitungseffizienz zu beeinflussen.
Herstellungsprozess: Der Produktionsprozess von Halbleiterquarzglas ist komplex und umfasst mehrere Technologien. Zum Beispiel können während des Herstellungsprozesses spezielle Verarbeitungstechniken erforderlich sein, um die Reinheit, den thermischen Schockwiderstand und die Fähigkeit, extreme Temperaturbedingungen des Quarzrohrs standzuhalten.
Produktspezifikationen: Der Bereich des Außendurchmessers, die Wanddicke, Wandabweichung, Elliptizität und Krümmung von Quarzrohren der Halbleiterqualität sind im Detail angegeben, um deren Leistungs- und Anwendungsstabilität sicherzustellen.
Das hochreinheitliche Halbleiter-Wärmebehandlungsprozess spielt eine wichtige Rolle im Bereich der Semiconductor Manufacturing, und seine einzigartigen Materialeigenschaften und die Anwendungsleistung machen es zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
Hochreinheit Halbleiter Wärmebehandlung Ofenprozess Quarzglasrohr
Hochreines Halbleiter -Wärmebehandungsofenprozess -Quarzglasrohr ist ein sehr wichtiges Material im Semiconductor -Herstellungsprozess. Diese Art von Quarzglasrohr wird hauptsächlich im Wärmebehandlungsprozess der Halbleiterherstellung verwendet, wie z. B. Diffusionsöfen, Oxidationsöfen usw.
Materialmerkmale: Das Quarzglasrohr mit hoher Purity-Halbleiter-Wärmebehandlungsprozess besteht hauptsächlich aus hochpurigen Siliziumdioxid, das hervorragende mechanische, thermische, optische und elektrische Eigenschaften aufweist. Aufgrund seiner einzigartigen Mikrostruktur weisen Quarzglasrohre eine ausgezeichnete spektrale Transparenz, extrem niedrige thermische Expansionskoeffizienten und Leitfähigkeit sowie eine ausstehende Strahlungswiderstand und eine lange Lebensdauer unter extremen Bedingungen auf.
Anwendungsbereiche: Halbleiter -Quarzglas wird in Halbleiter, Photovoltaik, optischer Faser, elektrischer Lichtquelle und anderen Feldern häufig verwendet. Insbesondere im ChIP -Herstellungsprozess, der das wertvollste Bereich in der Halbleiterindustrie ist, sind die Anforderungen an verwandte Materialien sehr streng.
Produktmerkmale: Quarzrohre der Halbleiterqualität haben eine hohe Reinheit, niedrige Hydroxylgruppen und Hochtemperaturwiderstand, was sie zu einer idealen Wahl für die Verarbeitung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien macht. Beispielsweise erfordern Quarzrohre in Diffusionsöfen im Allgemeinen eine hohe Reinheit für Einlass und Auslass, um ein einheitliches Gasmischen zu gewährleisten und somit die Zubereitungseffizienz zu beeinflussen.
Herstellungsprozess: Der Produktionsprozess von Halbleiterquarzglas ist komplex und umfasst mehrere Technologien. Zum Beispiel können während des Herstellungsprozesses spezielle Verarbeitungstechniken erforderlich sein, um die Reinheit, den thermischen Schockwiderstand und die Fähigkeit, extreme Temperaturbedingungen des Quarzrohrs standzuhalten.
Produktspezifikationen: Der Bereich des Außendurchmessers, die Wanddicke, Wandabweichung, Elliptizität und Krümmung von Quarzrohren der Halbleiterqualität sind im Detail angegeben, um deren Leistungs- und Anwendungsstabilität sicherzustellen.
Das hochreinheitliche Halbleiter-Wärmebehandlungsprozess spielt eine wichtige Rolle im Bereich der Semiconductor Manufacturing, und seine einzigartigen Materialeigenschaften und die Anwendungsleistung machen es zu einer idealen Wahl für Hochtemperaturreaktionsprozesse.
