Quarzglas wird in Halbleitern häufig verwendet, hauptsächlich in den folgenden Aspekten:

Ich, Waferverarbeitung

Tragen und Schutz von Wafern: Im Waferverarbeitungsprozess werden Quarzglasprodukte als Werkzeug zum Tragen und Schutz von Wafern verwendet, um sicherzustellen, dass die Wafer im Verarbeitungsprozess zur Aufrechterhaltung der Stabilität und zur Vermeidung von Kontaminationen oder Beschädigungen.

II, Lithographieprozess

Lithographiemaskenmaterial: Quarzglas wird aufgrund seiner hohen Lichtübertragung und Stabilität als Maskenmaterial im Lithographieprozess verwendet. Dies hilft, die Genauigkeit und Stabilität des Lithographieprozesses zu gewährleisten und verbessert die Herstellungsqualität von Halbleitergeräten.

III. Chemische Dampfabscheidung (CVD)

Substrat oder Gefäß: In einem CVD -Reaktor wird Quarzglas als Substrat oder Gefäß verwendet, das hohe Temperaturen und chemische Korrosion standhalten kann, um eine stabile Umgebung für die Ablagerung von Halbleitermaterialien bereitzustellen.

Iv. Ionenimplantation

Mit hochenergetischen Ionenwirkung standhalten: Im Ionen-Implantationsprozess kann Quarzglas den Auswirkungen von hochenergetischen Ionen ohne Bruch oder Deformation standhalten, um die Genauigkeit und Effizienz der Ionenimplantation zu gewährleisten.

V. Halbleiterausrüstung

Fertigungsteile: Quarzglas wird auch bei der Herstellung einer Vielzahl von Teilen von Halbleitergeräten wie Diffusionsrohre, Rillenbooten, Reinigungstanks usw. verwendet. Diese Teile spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von Halbleiter.

VI, Reinigung und Ätzen

Behältermaterialien: Im Reinigungs- und Ätzprozess wird Quarzglas aufgrund seiner chemischen Stabilität und Korrosionsbeständigkeit als Behältermaterial verwendet, um das glatte Ablauf des Reinigungs- und Ätzprozesses zu gewährleisten.

Vii, andere Anwendungen

Synthetische Quarz -Pergots: Aus Quarzglas synthetisierte Quarz -Pergots sind auch ein wichtiger Rohstoff für die Halbleiter -Photomask -Version mit einem sehr hohen technischen Schwellenwert.

Vorteile von Quarzglas im Halbleiter

Hohe Reinheit: Quarzglas hat einen geringen Verunreinigungsgehalt, der die Verschmutzung von Halbleitergeräten verringern kann.

Gute optische Eigenschaften: Erfüllen der Anforderungen der Photolithographie und anderer hochpräzierender Prozesse.

Hochtemperatur- und Korrosionsbeständigkeit: Anpassen an die harte Umgebung in der Herstellung von Halbleitern.

Hohe chemische Stabilität: Dabei nicht leicht mit Chemikalien zu reagieren.

Quarzglas spielt eine wichtige Rolle im Halbleiterherstellungsprozess, und seine hervorragende Leistung und ein breites Angebot an Anwendungen machen es zu einem der wichtigsten Materialien, die für die Halbleiterindustrie unverzichtbar sind.

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