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Placa de vidrio de sílice fusionada para equipos de semiconductores

  • Placa de vidrio de sílice fusionada para equipos de semiconductores

  • La placa de vidrio de sílice fusionada para equipos de semiconductores es un tipo de material especialmente diseñado para la industria de fabricación de semiconductores.

  • Cuarzo de luverre

  • 99.99%

  • Interior con bolsa de PVC de vacío y luego envuelto con película de burbujas de aire, exterior con caja de madera.

  • Según el requisito del cliente

Disponibilidad:

Placa de vidrio de sílice fusionada para equipos de semiconductores


La placa de vidrio de sílice fusionada para equipos de semiconductores es un tipo de material especialmente diseñado para la industria de fabricación de semiconductores. Tiene una serie de características físicas y químicas únicas, lo que hace que juegue un papel clave en los equipos de semiconductores.

La placa de vidrio de sílice fusionada de equipos de semiconductores es un material de vidrio de cuarzo de alta pureza, principalmente compuesto de dióxido de silicio (SIO2), que está hecho por procesos especiales de fusión y enfriamiento. Se usa ampliamente en procesos de fabricación de semiconductores, especialmente en entornos que requieren alta pureza, alta resistencia a la temperatura y estabilidad química.


Placa de vidrio de sílice fusionada para equipos de semiconductores


Alta pureza: la placa de vidrio de sílice fusionada está hecha de dióxido de silicio de alta pureza, con contenido de impureza extremadamente bajo, que es crítico para la limpieza y el rendimiento de los equipos de semiconductores.

Resistencia de alta temperatura: esta placa de vidrio puede soportar temperaturas de hasta 1000 ° C o más, por lo que es adecuada para procesos de alta temperatura en la fabricación de semiconductores, como recocido de obleas, difusión y grabado.

Bajo coeficiente de expansión térmica: la placa de vidrio de sílice fundida tiene un coeficiente muy bajo de expansión térmica, lo que significa que su tamaño cambia muy poco cuando cambia la temperatura, lo cual es crucial para mantener la precisión de la tecnología de semiconductores.

Estabilidad química: tiene alta resistencia a la mayoría de las sustancias químicas, no se corroe fácilmente y es adecuada para varios entornos de procesamiento químico en la fabricación de semiconductores.

Transparencia óptica: la placa de vidrio de sílice fusionada tiene una buena transparencia en la luz visible y parte del rango de luz ultravioleta, que es adecuada para la detección óptica y el procesamiento de láser.

Aislamiento eléctrico: este tipo de placa de vidrio es un buen aislante eléctrico, adecuado para componentes de equipos de semiconductores que requieren aislamiento eléctrico.

Resistencia mecánica: aunque el vidrio de cuarzo es relativamente frágil, la placa de vidrio de sílice fusionada tiene una buena resistencia mecánica, que puede cumplir con los requisitos de los equipos de semiconductores para la resistencia del material.


Varias formas de placas de vidrio de cuarzo óptico pulido


Áreas de aplicación:

Portador de obleas: utilizado como portador de obleas o barco de obleas para procesos de alta temperatura, como recocido, difusión y deposición de CVD.

Ventana óptica: como material de ventana óptica, se utiliza para el procesamiento láser, la detección óptica y el análisis espectral.

Componentes de la cámara de reacción: se utiliza para fabricar paredes y placas de cubierta para las cámaras de reacción de grabado y deposición, debido a su alta resistencia a la temperatura y estabilidad química.

Aislador: utilizado como aislador en el equipo de semiconductores para evitar la contaminación cruzada entre diferentes áreas de proceso.


propiedades de cuarzo


La placa de vidrio de sílice fusionada de equipos de semiconductores juega un papel importante en la industria de fabricación de semiconductores debido a su excelente rendimiento, lo que ayuda a realizar la producción de dispositivos semiconductores de alta precisión y alta confiabilidad.


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