Placa de vidro de sílica fundida para equipamentos semicondutores

A placa de vidro de sílica fundida para equipamentos semicondutores é um tipo de material especialmente projetado para a indústria de fabricação de semicondutores. Possui uma série de características físicas e químicas exclusivas, o que faz com que ele desempenhe um papel fundamental no equipamento de semicondutores.

A placa de vidro de sílica fundida de equipamento semicondutor é um material de vidro de quartzo de alta pureza, composto principalmente por dióxido de silício (SiO2), que é feito por processos especiais de fusão e resfriamento. É amplamente utilizado em processos de fabricação de semicondutores, especialmente em ambientes que requerem alta pureza, alta resistência à temperatura e estabilidade química.

Alta pureza: a placa de vidro de sílica fundida é feita de dióxido de silício de alta pureza, com conteúdo de impureza extremamente baixo, o que é fundamental para a limpeza e o desempenho do equipamento de semicondutores.

Resistência à alta temperatura: Esta placa de vidro pode suportar temperaturas de até 1000 ° C ou superior, tornando-a adequada para processos de alta temperatura na fabricação de semicondutores, como recozimento, difusão e gravação de bolacas.

Coeficiente baixo de expansão térmica: a placa de vidro de sílica fundida tem um coeficiente muito baixo de expansão térmica, o que significa que seu tamanho muda muito pouco quando a temperatura muda, o que é crucial para manter a precisão da tecnologia de semicondutores.

Estabilidade química: tem alta resistência à maioria das substâncias químicas, não é facilmente corroída e é adequada para vários ambientes de processamento químico na fabricação de semicondutores.

Transparência óptica: a placa de vidro de sílica fundida tem boa transparência na luz visível e parte da faixa de luz ultravioleta, adequada para detecção óptica e processamento a laser.

Isolamento elétrico: Este tipo de placa de vidro é um bom isolador elétrico, adequado para componentes de equipamentos semicondutores que requerem isolamento elétrico.

Resistência mecânica: embora o vidro de quartzo seja relativamente quebradiço, a placa de vidro de sílica fundida possui uma boa resistência mecânica, que pode atender aos requisitos do equipamento semicondutor para resistência ao material.

Áreas de aplicação:

Portador de wafer: usado como transportadora de bolacha ou barco de wafer para processos de alta temperatura, como recozimento, difusão e deposição de CVD.

Janela óptica: como material de janela óptica, é usado para processamento a laser, detecção óptica e análise espectral.

Componentes da câmara de reação: usados ​​para fabricar paredes e coberturas para as câmaras de reação de gravação e deposição, devido à sua resistência à alta temperatura e estabilidade química.

Isolador: usado como isolador em equipamentos semicondutores para evitar contaminação cruzada entre diferentes áreas de processo.

A placa de vidro de sílica fundida de equipamentos semicondutores desempenha um papel importante na indústria de fabricação de semicondutores devido ao seu excelente desempenho, ajudando a realizar a produção de dispositivos semicondutores de alta precisão e alta confiabilidade.

Por que nos escolher?

1. Somos mais experientes.

Temos mais de 18 anos de experiência de produção de itens de quartzo.

2. Nós somos mais eficientes.

Respondemos às solicitações dos clientes dentro de 24 horas e temos produção de produção, engenheiros e equipe de vendas de alta eficiência.

3. Nossa qualidade é mais garantida.

Controlamos a qualidade desde os caroços de quartzo até a areia de quartzo e, em seguida, produtos de quartzo, temos um controle de qualidade melhor e mais rigoroso do que outros fabricantes.

4. Podemos produzir produtos de quartzo mais difíceis.

Temos grandes plataformas de moagem e máquinas de gravação de precisão que nos permitem produzir grandes tamanhos de placas de quartzo, tubos e itens de quartzo de precisão de alto tamanho.