Placa de vidro de sílica fundida para equipamentos semicondutores

A placa de vidro de sílica fundida para equipamentos semicondutores é um tipo de material especialmente projetado para a indústria de fabricação de semicondutores. possui uma série de características físicas e químicas únicas, o que o faz desempenhar um papel fundamental em equipamentos semicondutores.

A placa de vidro de sílica fundida de equipamentos semicondutores é um material de vidro de quartzo de alta pureza, composto principalmente de dióxido de silício (SiO2), que é produzido por processos especiais de fusão e resfriamento. É amplamente utilizado em processos de fabricação de semicondutores, especialmente em ambientes que exigem alta pureza, resistência a altas temperaturas e estabilidade química.

Alta pureza: a placa de vidro de sílica fundida é feita de dióxido de silício de alta pureza, com teor de impurezas extremamente baixo, o que é fundamental para a limpeza e desempenho de equipamentos semicondutores.

Resistência a altas temperaturas: Esta placa de vidro pode suportar temperaturas de até 1000 ° C ou superiores, tornando-a adequada para processos de alta temperatura na fabricação de semicondutores, como recozimento de wafer, difusão e gravação.

Baixo coeficiente de expansão térmica: a placa de vidro de sílica fundida possui um coeficiente de expansão térmica muito baixo, o que significa que seu tamanho muda muito pouco quando a temperatura muda, o que é crucial para manter a precisão da tecnologia de semicondutores.

Estabilidade química: Possui alta resistência à maioria das substâncias químicas, não é facilmente corroída e é adequado para vários ambientes de processamento químico na fabricação de semicondutores.

Transparência óptica: a placa de vidro de sílica fundida possui boa transparência na luz visível e parte da faixa de luz ultravioleta, que é adequada para detecção óptica e processamento a laser.

Isolamento elétrico: Este tipo de placa de vidro é um bom isolante elétrico, adequado para componentes de equipamentos semicondutores que requerem isolamento elétrico.

Resistência mecânica: Embora o vidro de quartzo seja relativamente frágil, a placa de vidro de sílica fundida tem boa resistência mecânica, o que pode atender aos requisitos de equipamentos semicondutores para resistência do material.

Áreas de aplicação:

Transportador de wafer: usado como transportador de wafer ou barco de wafer para processos de alta temperatura, como recozimento, difusão e deposição de CVD.

Janela óptica: Como material de janela óptica, é usada para processamento a laser, detecção óptica e análise espectral.

Componentes da câmara de reação: utilizados na fabricação de paredes e placas de cobertura para câmaras de reação de ataque e deposição, devido à sua resistência a altas temperaturas e estabilidade química.

Isolador: Usado como isolador em equipamentos semicondutores para evitar contaminação cruzada entre diferentes áreas de processo.

A placa de vidro de sílica fundida de equipamentos semicondutores desempenha um papel importante na indústria de fabricação de semicondutores devido ao seu excelente desempenho, ajudando a realizar a produção de dispositivos semicondutores de alta precisão e alta confiabilidade.

Por que nos escolher?

1.Somos mais experientes.

Temos mais de 18 anos de experiência na produção de itens de quartzo.

2.Somos mais eficientes.

Respondemos às solicitações dos clientes dentro de 24 horas e temos produção, engenheiros e equipe de vendas de alta eficiência.

3.Nossa qualidade é mais garantida.

Controlamos a qualidade desde pedaços de quartzo até areia de quartzo e depois produtos de quartzo, temos um controle de qualidade melhor e mais rigoroso do que outros fabricantes.

4.Somos capazes de produzir produtos de quartzo mais difíceis.

Temos grandes plataformas de moagem e máquinas de gravação de precisão que nos permitem produzir grandes tamanhos de placas de quartzo, tubos e itens de quartzo de precisão de alto tamanho.