Gesmolten silicaglasplaat voor halfgeleiderapparatuur

Gesmolten silicaglasplaat voor halfgeleiderapparatuur is een soort materiaal dat speciaal is ontworpen voor de halfgeleiderindustrie. het heeft een reeks unieke fysische en chemische eigenschappen, waardoor het een sleutelrol speelt in halfgeleiderapparatuur.

De gesmolten silicaglasplaat van halfgeleiderapparatuur is een zeer zuiver kwartsglasmateriaal, voornamelijk samengesteld uit siliciumdioxide (SiO2), dat wordt gemaakt door speciale smelt- en koelprocessen. Het wordt veel gebruikt in halfgeleiderproductieprocessen, vooral in omgevingen die een hoge zuiverheid, hoge temperatuurbestendigheid en chemische stabiliteit vereisen.

Hoge zuiverheid: de plaat van gesmolten silicaglas is gemaakt van zeer zuiver siliciumdioxide, met een extreem laag onzuiverheidsgehalte, wat cruciaal is voor de netheid en prestaties van halfgeleiderapparatuur.

Hoge temperatuurbestendigheid: Deze glasplaat is bestand tegen temperaturen tot 1000 ° C of hoger, waardoor hij geschikt is voor hoge temperatuurprocessen bij de productie van halfgeleiders, zoals wafergloeien, diffusie en etsen.

Lage thermische uitzettingscoëfficiënt: de plaat van gesmolten silicaglas heeft een zeer lage thermische uitzettingscoëfficiënt, wat betekent dat de grootte ervan zeer weinig verandert als de temperatuur verandert, wat cruciaal is voor het behoud van de nauwkeurigheid van de halfgeleidertechnologie.

Chemische stabiliteit: Het heeft een hoge weerstand tegen de meeste chemische stoffen, is niet gemakkelijk te corroderen en is geschikt voor verschillende chemische verwerkingsomgevingen bij de productie van halfgeleiders.

Optische transparantie: de plaat van gesmolten silicaglas heeft een goede transparantie in het zichtbare licht en een deel van het ultraviolette lichtbereik, wat geschikt is voor optische detectie en laserverwerking.

Elektrische isolatie: Dit type glasplaat is een goede elektrische isolator, geschikt voor componenten van halfgeleiderapparatuur die elektrische isolatie vereisen.

Mechanische sterkte: Hoewel het kwartsglas relatief bros is, heeft de gesmolten silicaglasplaat een goede mechanische sterkte, die kan voldoen aan de eisen van halfgeleiderapparatuur voor materiaalsterkte.

Toepassingsgebieden:

Waferdrager: Gebruikt als wafeldrager of wafelboot voor processen bij hoge temperaturen zoals gloeien, diffusie en CVD-afzetting.

Optisch venster: Als optisch venstermateriaal wordt het gebruikt voor laserverwerking, optische detectie en spectrale analyse.

Reactiekamercomponenten: gebruikt voor de vervaardiging van wanden en afdekplaten voor het etsen en afzetten van reactiekamers, vanwege hun hoge temperatuurbestendigheid en chemische stabiliteit.

Isolator: Gebruikt als isolator in halfgeleiderapparatuur om kruisbesmetting tussen verschillende procesgebieden te voorkomen.

De gesmolten silicaglasplaat van halfgeleiderapparatuur speelt een belangrijke rol in de halfgeleiderindustrie vanwege zijn uitstekende prestaties, waardoor de productie van halfgeleiderapparaten met hoge precisie en hoge betrouwbaarheid wordt gerealiseerd.

Waarom voor ons kiezen?

1. Wij hebben meer ervaring.

We hebben meer dan 18 jaar productie-ervaring met kwartsartikelen.

2.We zijn efficiënter.

We beantwoorden de verzoeken van klanten binnen 24 uur en we hebben een hoog efficiënt productie-, ingenieurs- en verkoopteam.

3.Onze kwaliteit is meer gegarandeerd.

We controleren de kwaliteit van kwartsklonten tot kwartszand en vervolgens kwartsproducten, we hebben een betere en strengere kwaliteitscontrole dan andere fabrikanten.

4.We zijn in staat moeilijkere kwartsproducten te produceren.

We beschikken over grote slijpplatforms en precisie-etsmachines waarmee we grote maten kwartsplaten, buizen en hoogwaardige precisiekwartsartikelen kunnen produceren.