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Plaque de verre de silice fusionnée pour équipement semi-conducteur

  • Plaque de verre de silice fusionnée pour équipement semi-conducteur

  • La plaque de verre de silice fusionnée pour l'équipement semi-conducteur est une sorte de matériau spécialement conçu pour l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs.

  • Quartz de Luverre

  • 99,99%

  • Intérieur avec sac en PVC à vide, puis enveloppé de films d'air, à l'extérieur avec boîte en bois.

  • Selon l'exigence du client

Disponibilité:

Plaque de verre de silice fusionnée pour équipement semi-conducteur


La plaque de verre de silice fusionnée pour l'équipement semi-conducteur est une sorte de matériau spécialement conçu pour l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Il a une série de caractéristiques physiques et chimiques uniques, ce qui en fait jouer un rôle clé dans l'équipement semi-conducteur.

La plaque de verre de silice fusionnée d'équipement de semi-conducteur est un matériau en verre de quartz de haute pureté, principalement composé de dioxyde de silicium (SiO2), qui est fabriqué par des processus spéciaux de fusion et de refroidissement. Il est largement utilisé dans les processus de fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans les environnements qui nécessitent une pureté élevée, une résistance à haute température et une stabilité chimique.


Plaque de verre de silice fusionnée pour équipement semi-conducteur


Haute pureté: la plaque de verre de silice fondu est faite de dioxyde de silicium de haute pureté, avec une teneur en impureté extrêmement faible, ce qui est essentiel à la propreté et aux performances de l'équipement semi-conducteur.

Résistance à haute température: cette plaque de verre peut résister à des températures allant jusqu'à 1000 ° C ou plus, ce qui le rend adapté aux processus à haute température dans la fabrication de semi-conducteurs tels que le recuit, la diffusion et la gravure.

Faible coefficient de dilatation thermique: la plaque de verre de silice fusionnée a un coefficient d'expansion thermique très faible, ce qui signifie que sa taille change très peu lorsque la température change, ce qui est crucial pour maintenir la précision de la technologie des semi-conducteurs.

Stabilité chimique: il a une forte résistance à la plupart des substances chimiques, n'est pas facilement corrodé et convient à divers environnements de traitement chimique dans la fabrication de semi-conducteurs.

Transparence optique: la plaque de verre de silice fusionnée a une bonne transparence dans la lumière visible et une partie de la gamme de lumière ultraviolette, qui convient à la détection optique et au traitement laser.

Isolation électrique: Ce type de plaque de verre est un bon isolant électrique, adapté aux composants de l'équipement semi-conducteur qui nécessitent une isolation électrique.

Résistance mécanique: Bien que le verre de quartz soit relativement cassant, la plaque de verre de silice fondue a une bonne résistance mécanique, qui peut répondre aux exigences de l'équipement semi-conducteur pour une résistance au matériau.


Diverses formes de plaques de verre de quartz optique polies


Zones d'application:

Carrier de la plaquette: utilisé comme porte-boue ou bateau à plaquette pour les processus à haute température tels que le recuit, la diffusion et le dépôt de MCV.

Fenêtre optique: En tant que matériau de fenêtre optique, il est utilisé pour le traitement au laser, la détection optique et l'analyse spectrale.

Composants de la chambre de réaction: utilisés pour fabriquer des murs et couvrir les plaques pour les chambres de réaction de gravure et de dépôt, en raison de leur résistance à haute température et de leur stabilité chimique.

Isolateur: utilisé comme isolateur dans l'équipement semi-conducteur pour empêcher la contamination croisée entre les différentes zones de processus.


Propriétés de quartz


La plaque de verre de silice fusionnée d'équipements de semi-conducteurs joue un rôle important dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs en raison de ses excellentes performances, contribuant à réaliser la production d'appareils semi-conducteurs à haute précision et à haute fiabilité.


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