Placa de vidro de sílica fundida com absorção infravermelha

A placa de vidro de sílica fundida com absorção infravermelha é um tipo especial de material de vidro óptico, usado principalmente em aplicações de banda infravermelha próxima. A característica desta placa de vidro é o seu teor muito baixo de hidroxila (OH -), normalmente inferior a 5 ppm, o que minimiza a absorção na região infravermelha. Em aplicações ópticas, a absorção, transmissão, espalhamento e uniformidade óptica do vidro de quartzo são indicadores importantes. Especialmente em vidro de sílica fundida de alta pureza, os picos de absorção mais óbvios aparecem em 945 nm, 1245 nm, 1385 nm, 2210 nm, 2700 nm-2800 nm. Esses picos de absorção são causados ​​principalmente pela presença de OH - na estrutura do material de sílica.

O desempenho da placa de vidro de sílica fundida com absorção infravermelha em temperatura elevada também é uma consideração importante. Por exemplo, sob irradiação laser, o aumento da temperatura do vidro de sílica fundida está relacionado ao valor de absorção do material e ao tamanho do ponto de luz. O experimento de simulação mostra que o incremento de temperatura do vidro de sílica fundida é linear com o valor de absorção sob um determinado tamanho de ponto e potência do laser.

Este tipo de placa de vidro é crucial em aplicações de infravermelho próximo, como processamento de materiais a laser, interferômetros de alta precisão, espectrômetros, aplicações médicas e lasers de alta energia. Os elementos típicos de sílica fundida no infravermelho próximo incluem lente, divisor de feixe, fatia de janela, fatia de janela protetora, prisma e guia de onda óptico.

A placa de vidro de sílica fundida com absorção de infravermelho desempenha um papel importante no campo óptico do infravermelho próximo devido ao seu excelente desempenho e amplo uso.

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