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Placa de vidro de sílica fundida para fabricação de semicondutores

  • Placa de vidro de sílica fundida para fabricação de semicondutores

  • A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material de alta tecnologia, usado principalmente em semicondutores, fontes eletro-ópticas, dispositivos de comunicação semicondutores, laser, instrumentos ópticos e outros campos.

  • Quartzo LUVERRE

  • 99,99%

  • Interior com saco de PVC a vácuo e depois embrulhado com filme bolha de ar, exterior com caixa de madeira.

  • conforme a exigência do cliente

Disponibilidade:

Placa de vidro de sílica fundida para fabricação de semicondutores


A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material de alta tecnologia, usado principalmente em semicondutores, fontes eletro-ópticas, dispositivos de comunicação semicondutores, laser, instrumentos ópticos e outros campos. Este material é um vidro especial feito pela fusão de quartzo natural puro (como cristal, areia de quartzo, etc.) e contendo apenas dióxido de silício como único componente. O vidro de quartzo pode ser processado de várias maneiras. De acordo com diferentes tipos, processos e matérias-primas, pode ser dividido em vidro de silicato, vidro de quartzo, sílica fundida, sílica fundida sintética, quartzo fundido, etc.


Placa de vidro de sílica fundida para fabricação de semicondutores


A microestrutura do vidro semicondutor de quartzo é composta por uma estrutura tetraédrica de dióxido de silício, com alta energia de ligação química Si-O, resultando em uma estrutura compacta e propriedades únicas. Este tipo de vidro possui características ópticas significativas, como alta transmitância, baixa expansão térmica e excelentes propriedades espectrais, tornando-o adequado para fabricação de alta precisão de substratos para máscaras fotográficas.


Na indústria de semicondutores, o processo de fabricação e os requisitos de matéria-prima para vidro de quartzo opaco de alta pureza são muito rigorosos. O processo de preparação inclui etapas como fusão, trabalho a quente e trabalho a frio. O processo de fusão inclui principalmente fusão elétrica e refino de gás, enquanto o processo de fabricação para síntese de vidro de quartzo inclui deposição química de vapor (CVD), deposição química de vapor plasmático (PCVD), etc.


Vários formatos de placas de vidro óptico de quartzo polido


O vidro de sílica fundida é amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, como equipamentos de processamento em lote e equipamentos de processamento de wafer. Este vidro de quartzo possui características de alta pureza e uniformidade de material, mantendo um baixo teor de bolhas, o que é crucial para precisão e confiabilidade nos processos de fabricação de semicondutores.


propriedades de quartzo


A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material básico fundamental. Sua alta pureza, excelentes propriedades ópticas e estabilidade química fazem com que desempenhe um papel importante na fabricação de semicondutores.


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