Placa de vidro de sílica fundida para fabricação de semicondutores
A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material de alta tecnologia, usado principalmente em semicondutores, fontes eletro-ópticas, dispositivos de comunicação semicondutores, laser, instrumentos ópticos e outros campos.
Quartzo LUVERRE
99,99%
Interior com saco de PVC a vácuo e depois embrulhado com filme bolha de ar, exterior com caixa de madeira.
conforme a exigência do cliente
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Placa de vidro de sílica fundida para fabricação de semicondutores
A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material de alta tecnologia, usado principalmente em semicondutores, fontes eletro-ópticas, dispositivos de comunicação semicondutores, laser, instrumentos ópticos e outros campos. Este material é um vidro especial feito pela fusão de quartzo natural puro (como cristal, areia de quartzo, etc.) e contendo apenas dióxido de silício como único componente. O vidro de quartzo pode ser processado de várias maneiras. De acordo com diferentes tipos, processos e matérias-primas, pode ser dividido em vidro de silicato, vidro de quartzo, sílica fundida, sílica fundida sintética, quartzo fundido, etc.
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A microestrutura do vidro semicondutor de quartzo é composta por uma estrutura tetraédrica de dióxido de silício, com alta energia de ligação química Si-O, resultando em uma estrutura compacta e propriedades únicas. Este tipo de vidro possui características ópticas significativas, como alta transmitância, baixa expansão térmica e excelentes propriedades espectrais, tornando-o adequado para fabricação de alta precisão de substratos para máscaras fotográficas.
Na indústria de semicondutores, o processo de fabricação e os requisitos de matéria-prima para vidro de quartzo opaco de alta pureza são muito rigorosos. O processo de preparação inclui etapas como fusão, trabalho a quente e trabalho a frio. O processo de fusão inclui principalmente fusão elétrica e refino de gás, enquanto o processo de fabricação para síntese de vidro de quartzo inclui deposição química de vapor (CVD), deposição química de vapor plasmático (PCVD), etc.

O vidro de sílica fundida é amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, como equipamentos de processamento em lote e equipamentos de processamento de wafer. Este vidro de quartzo possui características de alta pureza e uniformidade de material, mantendo um baixo teor de bolhas, o que é crucial para precisão e confiabilidade nos processos de fabricação de semicondutores.

A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material básico fundamental. Sua alta pureza, excelentes propriedades ópticas e estabilidade química fazem com que desempenhe um papel importante na fabricação de semicondutores.
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