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Fabricação de semicondutores Fused Silica Glass Plate

  • Fabricação de semicondutores Fused Silica Glass Plate

  • A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material de alta tecnologia, usado principalmente em semicondutor, fonte eletro-óptica, dispositivo de comunicação semicondutora, laser, instrumento óptico e outros campos.

  • Luverre Quartz

  • 99,99%

  • Interior com sacola de PVC a vácuo e depois embrulhada em filme de bolha de ar, externo com caixa de madeira.

  • conforme a exigência do cliente

Disponibilidade:

Fabricação de semicondutores Fused Silica Glass Plate


A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material de alta tecnologia, usado principalmente em semicondutor, fonte eletro-óptica, dispositivo de comunicação semicondutora, laser, instrumento óptico e outros campos. Este material é um vidro especial feito por derretimento de quartzo natural puro (como cristal, areia de quartzo etc.) e contendo apenas dióxido de silício como um único componente. O vidro de quartzo pode ser processado de várias maneiras. De acordo com diferentes tipos, processos e matérias -primas, ele pode ser dividido em vidro de silicato, vidro de quartzo, sílica fundida, sílica fundida sintética, quartzo fundido, etc.


Fabricação de semicondutores Fused Silica Glass Plate


A microestrutura do vidro de quartzo semicondutores é composta por uma estrutura tetraédrica de dióxido de silício, com uma alta energia de ligação química SI-O, resultando em uma estrutura compacta e propriedades únicas. Esse tipo de vidro possui características ópticas significativas, como alta transmitância, baixa expansão térmica e excelentes propriedades espectrais, tornando-a adequada para a fabricação de alta precisão de substratos de máscaras de fotomase.


Na indústria de semicondutores, o processo de fabricação e os requisitos de matéria-prima para vidro de quartzo opaco de alta pureza são muito rigorosos. O processo de preparação inclui etapas como derretimento, trabalho quente e trabalho frio. O processo de fusão inclui principalmente a fusão elétrica e o refino de gás, enquanto o processo de fabricação para sintetizar o vidro de quartzo inclui deposição de vapor químico (DCV), deposição de vapor químico plasmático (PCVD), etc.


Várias formas de placas de vidro de quartzo ópticas polidas


O vidro de sílica fundido é amplamente utilizado na fabricação de semicondutores, como equipamentos de processamento em lote e equipamentos de processamento de bolas. Este vidro de quartzo tem as características de alta pureza e uniformidade do material, mantendo um baixo teor de bolhas, o que é crucial para a precisão e confiabilidade nos processos de fabricação de semicondutores.


Propriedades de quartzo


A placa de vidro de sílica fundida usada na fabricação de semicondutores é um material básico -chave. Sua alta pureza, excelentes propriedades ópticas e estabilidade química fazem com que ela desempenhe um papel importante na fabricação de semicondutores.


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