Crogiolo di quarzo fuso ad elevata purezza

L'elevata purezza Il crogiolo di quarzo fuso è un contenitore centrale costituito da sabbia di quarzo di elevata purezza (contenuto di SiO ₂ ≥ 99,99%) attraverso fusione ad alta temperatura, stampaggio di precisione e speciali processi di post-trattamento. Il suo vantaggio principale risiede nell'eccellente stabilità termica, inerzia chimica e basso coefficiente di dilatazione termica, che può mantenere la stabilità strutturale in ambienti con temperature estreme (0-1600 ℃). Si tratta di un materiale di consumo chiave insostituibile in settori quali i semiconduttori, il fotovoltaico e la fusione di precisione.

Caratteristiche principali

Materiale ultra puro: contenuto di impurità inferiore a 100 ppm, che evita l'inquinamento da ioni metallici e soddisfa i requisiti di pulizia del grado di semiconduttore.

Resistenza agli shock termici: in grado di sopportare un raffreddamento e un riscaldamento rapidi (Δ T ≤ 300 ℃/s), riducendo il rischio di fessurazioni causate dallo stress termico.

Resistenza alla corrosione: ha una resistenza estremamente forte agli acidi forti (eccetto HF), alle basi forti e ai metalli fusi, prolungandone la durata.

Elevata trasmittanza: la trasmittanza nella banda dall'ultravioletto all'infrarosso è superiore al 90%, adatta per la fusione di materiali ottici.

Design personalizzato: supporta la personalizzazione personalizzata di forma, dimensione, spessore della parete e trattamento superficiale (come lucidatura e rivestimento).

Scenari applicativi tipici

（1） Industria dei semiconduttori

Crescita del silicio monocristallino: come contenitore centrale del forno monocristallino con metodo Czochralski (metodo Czochralski), esegue il processo di fusione del silicio policristallino, garantendo che la purezza dei cristalli di silicio raggiunga 9N o superiore.

Semiconduttore composto: utilizzato per fondere composti III-V come GaAs e InP per evitare difetti reticolari causati dall'introduzione di impurità metalliche.

Deposizione epitassiale: Come camera di reazione per MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), garantisce l'uniformità del film sottile.

Affrontare i punti critici: sostituire i tradizionali crogioli in grafite, eliminare i rischi di inquinamento da carbonio e migliorare la resa dei wafer del 15%-20%.

（2）Industria fotovoltaica

Lingotto di silicio policristallino: trasporta materiale di silicio nel metodo di solidificazione direzionale e raggiunge una produzione di lingotti di silicio a basso tasso di difetti attraverso un controllo preciso della temperatura.

Preparazione della cella PERC: come barca al quarzo con forno a diffusione, può resistere al processo di diffusione del fosforo ad alta temperatura e ridurre il distacco dello strato di vetro.

Affrontare i punti critici: prolungare la durata del crogiolo fino a oltre 200 volte e ridurre il costo per watt di 0,03 yuan.

（3） Microfusioni e leghe speciali

Fusione della lega di titanio: trasporto di metalli attivi come titanio e zirconio in un forno ad arco sotto vuoto per evitare reazioni con i materiali del crogiolo.

Formatura del vetro ottico: utilizzata per fondere materiali ad alto indice di rifrazione come fluoruro di calcio e vetro al germanio per garantire l'uniformità ottica.

Affrontare i punti critici: la sostituzione dei crogioli in lega di platino e rodio riduce i costi dell'80% evitando la perdita di metalli preziosi e l'inquinamento.

（4） Ricerche ed esperimenti speciali

Reazione chimica ad alta temperatura: come rivestimento interno di un'autoclave, può resistere ad ambienti con pH estremo e condizioni di alta pressione.

Sintesi quantistica di materiali: fornitura di superfici pulite a livello atomico nei sistemi MBE (epitassia a fascio molecolare).

Servizio personalizzato

Siamo ben consapevoli che esistono differenze nei requisiti dei crogioli tra diversi clienti, apparecchiature e persino processi. Pertanto, forniamo servizi di personalizzazione completi e flessibili per garantire che i nostri prodotti si adattino perfettamente al vostro sistema di produzione.

Personalizzazione delle taglie:

Possiamo personalizzare crogioli con vari diametri, altezze, forme del fondo (fondo piatto, fondo sferico) e inclinazioni in base al modello del vostro forno.

Offriamo una gamma completa di prodotti, dalle piccole dimensioni da laboratorio (come pochi pollici) alle grandi dimensioni industriali (come 32 pollici, 36 pollici e superiori).

Personalizzazione dello spessore della parete:

Fornire soluzioni con diversi spessori delle pareti laterali e del fondo per soddisfare diversi requisiti di progettazione del campo termico, prestazioni di isolamento e resistenza meccanica.

Personalizzazione del rivestimento:

Rivestimento di bario/cerio sulla parete interna: questa è un'opzione standard per i crogioli di grado semiconduttore. Il rivestimento può formare uno strato barriera denso ad alte temperature, sopprimendo efficacemente la reazione e la cristallizzazione tra il crogiolo e il liquido di silicio, ritardando la formazione dello strato di quarzo, prolungando notevolmente la durata del crogiolo e riducendo l'inquinamento del liquido di silicio.

Possiamo fornire soluzioni di rivestimento con diversi spessori e composizioni in base alle vostre esigenze di processo.

Usiamo il crogiolo di quarzo fuso di elevata purezza estremamente puro e stabile per diventare una solida base per la vostra produzione di alta qualità. Benvenuti a indagare e collaborare!

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