0.2mmレーザー掘削透明な石英ガラス板

0.2mmレーザー掘削透明な石英ガラス板は、主に高純度の二酸化シリコン（SIO₂）で作られた高精度で非常に透明な光学材料です。

パフォーマンス特性

高透明度： 透明な石英ガラス板は、特に紫外線スペクトル領域で、紫外線から近赤外まで、80％を超える紫外線スペクトル領域において、全体のスペクトル範囲に良好な透明性があります。

高温抵抗： 石英ガラスは非常に高耐熱性で、軟化点温度は約1730℃です。 1100℃で長時間使用でき、短期使用の最大温度は1450°に達することがあります。

化学的安定性： 石英ガラスは、ほとんどの化学物質に対して良好な耐性を持ち、フルオリン酸とリン酸以外の酸とは反応せず、アルカリとほとんどの塩溶液に比較的安定しています。

低熱膨張係数： 石英ガラスの熱膨張係数は非常に低く、約5.4×10 ^ -7/℃です。つまり、温度が変化するときにサイズはほとんど変化しないため、熱ショックのために壊れるのは簡単ではありません。

高純度： 石英ガラスは主に二酸化シリコンで構成されており、通常は99.9％を超える純度があり、高い透明性と良好な物理的特性をもたらします。

アプリケーションエリア

その優れた性能により、0.2mmレーザードリル透明なクォーツガラスプレートが次のフィールドで広く使用されています。

光学器具： 透明性が高いため、耐熱性が高いため、さまざまな光学機器やコンポーネントの製造に適しています。

実験装置： 高温と耐食性により、研究室での高温および化学実験で広く使用されています。

半導体機器： 半導体製造プロセスでは、高純度および高耐熱性材料が必要であり、透明な石英ガラス板がこれらのニーズを正確に満たしています。

UVランプと光硬化マシン： 特にUVスペクトル領域での優れた透明性により、UVランプと軽硬化機で透明なクォーツガラスプレートが広く使用されています。

0.2mmレーザードリル透明なクォーツガラスプレートは、光学、半導体、研究所などの多くの分野で不可欠な材料になりました。

詳細については、お気軽にお問い合わせください。

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