半導体製造融合シリカガラス板

半導体製造で使用される融合シリカガラス板は、主に半導体、電気光源、半導体通信デバイス、レーザー、光学機器、その他のフィールドで使用されているハイテク材料です。この材料は、純粋な天然石英（結晶、石英砂など）を溶かし、単一の成分として二酸化シリコンのみを含む特別なガラスです。石英ガラスはさまざまな方法で処理できます。さまざまなタイプ、プロセス、原材料に応じて、ケイ酸塩ガラス、石英ガラス、融合シリカ、合成融合シリカ、融合クォーツなどに分けることができます。

半導体石英ガラスの微細構造は、高酸化シリコンの四面体構造で構成され、SI-O化学結合エネルギーが高く、コンパクトな構造とユニークな特性をもたらします。このタイプのガラスには、高透過率、低熱膨張、優れたスペクトル特性などの重要な光学特性があり、フォトマスク基質の高精度の製造に適しています。

半導体業界では、高純度の不透明な石英ガラスの製造プロセスと原材料の要件は非常に厳しいものです。準備プロセスには、融解、ホットワーキング、コールドワークなどの手順が含まれます。融解プロセスには主に電気融解とガスの精製が含まれますが、石英ガラスを合成するための製造プロセスには、化学蒸気堆積（CVD）、血漿化学蒸気堆積（PCVD）などが含まれます。

融合シリカガラスは、バッチ処理装置やウェーハ加工装置など、半導体製造に広く使用されています。このクォーツガラスには、低純度と材料の均一性の特性があり、低いバブル含有量を維持します。これは、半導体製造プロセスの精度と信頼性に重​​要です。

半導体製造で使用される融合シリカガラス板は、重要な基本材料です。その高い純度、優れた光学特性、化学的安定性により、半導体製造において重要な役割が果たしています。

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