석영 유리 패널이 늘어선 화학 장비

석영유리판은 고순도 이산화규소(SiO2)를 원료로 한 특수 산업용 유리입니다.

주요 특징:

고온 저항 : 연화점은 1730 ℃로 높으며 1100 ℃ ~ 1200 ℃에서 오랫동안 사용할 수 있습니다. 단기 사용을 위한 최대 온도는 1450 ℃에 도달할 수 있습니다.

내식성 : 불산을 제외하고는 다른 산성 물질과 화학적으로 거의 반응하지 않습니다. 내산성은 세라믹의 30배, 스테인리스의 150배에 달해 부식성이 강한 화학물질을 취급하는 데 매우 적합합니다.

열 안정성: 열 팽창 계수가 매우 낮아(약 5.5 × 10 ⁻·/° C) 급격한 온도 변화를 견딜 수 있으며 열 충격으로 인해 쉽게 깨지지 않습니다.

투명도 성능: 자외선부터 적외선까지 전체 스펙트럼 범위에서 탁월한 투명성을 가지며, 가시광선 투과율은 93% 이상입니다.

전기 절연성 : 고저항으로 높은 절연 성능이 요구되는 장비에 적합한 우수한 전기 절연 재료입니다.

이러한 특성으로 인해 석영 유리 패널은 화학 장비 라이닝에 이상적인 재료입니다.

애플리케이션 시나리오

석영유리 패널은 우수한 물리적, 화학적 특성으로 인해 다양한 분야에서 널리 사용되고 있으며, 특히 화학산업에서 탁월한 성능을 발휘하고 있습니다.

화학 장비: 부식성 물질이 장비를 부식시키는 것을 방지하고 장비의 장기간 안정적인 작동을 보장하기 위해 반응 용기, 저장 탱크, 파이프라인 등과 같은 장비 라이닝에 사용됩니다.

실험실 장비: 실험의 정확성과 안전성을 보장하기 위해 실험실에서 반응 용기, 시험관 등을 제조하는 데 일반적으로 사용됩니다.

환경 보호 산업: 폐수 및 배기 가스와 같은 오염 물질을 처리하는 장비에서 석영 유리판은 부식에 효과적으로 저항하고 장비 수명을 연장할 수 있습니다.

광학 분야에서는 높은 투과율로 인해 광학 기기(예: 분광계, 프리즘) 및 포토마스크 기판을 제조하는 데 사용됩니다.

광전지 산업: 태양 확산로 및 PECVD 튜브 퍼니스와 같은 장비의 고순도 반응 챔버 또는 운송 파이프라인의 라이닝 재료로 사용됩니다.

맞춤형 설명

석영 유리 패널은 다양한 응용 시나리오 및 장비 요구 사항에 적응하기 위해 고객 요구에 따라 맞춤 설정할 수 있습니다.

모양 및 크기: 원형, 정사각형, 타원형, 삼각형 등과 같은 다양한 모양의 사용자 정의를 지원합니다. 길이 범위는 일반적으로 1-2000mm, 외부 직경은 0.2-6mm, 내부 직경은 0.06-5mm이며 공차는 ± 0.03mm까지 정확할 수 있습니다.

재료 선택: 석영 유리 외에도 수요에 따라 고붕규산 유리와 같은 다른 재료도 선택할 수 있습니다.

처리 기술: 와이어 드로잉, 연마, 연삭 등의 공정을 사용하여 기포 없이 부드럽고 균일한 표면을 보장하여 고정밀 요구 사항을 충족합니다.

응용 시나리오 적응: 고온, 고압 또는 강한 부식성 환경에 적응하기 위해 특정 응용 분야(예: 화학, 광학, 광전지 등)에 따라 두께, 구멍 및 벽 두께가 다른 석영 유리판을 사용자 정의합니다.

석영 유리 패널은 높은 내열성, 내식성 및 강한 열 안정성으로 인해 화학 장비 라이닝의 중요한 재료가 되었습니다. 이는 화학 공학, 실험실, 환경 보호, 광학 및 광전지와 같은 여러 분야를 포괄하는 광범위한 응용 분야를 보유하고 있습니다. 한편, 유연한 맞춤형 서비스는 다양한 고객의 개인화된 요구를 충족할 수 있어 고급 산업 분야에 더 많은 적용 가능성을 제공합니다.

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