용융 실리카 유리판은 일반 유리의 거의 1/20에 해당하는 약 5.5 × 10 ⁻⁷/℃의 매우 낮은 열팽창 계수로 유명합니다. 이러한 특성으로 인해 극심한 온도 변화에도 마이크로미터 수준의 치수 안정성을 유지할 수 있어 반도체 노광기, 고온 관찰창, 천체 망원경 기판 등 정밀 응용 분야에 없어서는 안 될 핵심 소재입니다.

열팽창계수에 관해 가장 우려되는 점은 무엇입니까?

Q: 내 장치는 고온과 실온 사이를 반복적으로 순환해야 하며 일반 재료의 변형으로 인해 광학 경로 편차가 발생합니다. 이 문제를 어떻게 해결할 수 있나요?

답변: 용융 실리카 유리판의 열팽창 계수가 매우 낮기 때문에 온도 충격에 따른 변형이 거의 없으며 열팽창 및 냉간 수축으로 인한 시스템 교정 실패 문제를 근본적으로 해결하고 장비의 장기적 안정적인 작동을 보장할 수 있습니다.

Q: 석영판을 고온 반응 용기의 관찰 창으로 사용해야 하는데, 내열성과 밀봉성이 모두 있어야 합니다. 우리는 이것을 달성할 수 있나요?

대답: 물론 가능합니다. 당사의 용융 실리카 플레이트는 최대 1100℃의 온도를 견딜 수 있을 뿐만 아니라 정밀한 평면 연삭을 제공하여 최대 λ/10까지 표면 평탄도를 보장합니다. 특수 밀봉 링을 사용하면 진공 또는 고압 환경에서 안정적인 밀봉을 달성할 수 있습니다.

Q: 이 프로젝트에는 박막 증착 캐리어용으로 초대형 크기와 균일한 두께를 가진 석영 기판이 필요합니다. 맞춤화가 지원되나요?

답변: 물론입니다. 우리는 초대형 용융 실리카 플레이트(최대 크기는 1000mm x 800mm에 달할 수 있음)를 생산할 수 있는 능력을 갖추고 있으며 베어링 평탄도에 대한 엄격한 요구 사항을 충족하기 위해 두께 공차를 ± 0.02mm 이내로 엄격하게 제어합니다.

극히 낮은 팽창계수가 가져다주는 고유한 가치

1. 열변형이 거의 0에 가깝다.

용융 실리카 유리의 선형 열팽창 계수는 극히 낮습니다. 이는 온도가 변해도 원자 구조가 거의 이동하지 않음을 의미합니다. 이 기능이 가져오는 직접적인 이점은 다음과 같습니다.

-정밀 정렬: 리소그래피 기계와 같은 장비에서 장시간 노출로 인해 열 축적으로 인해 패턴이 왜곡되지 않습니다.

-열 안정성: 기준 눈금자 및 측정 장비에 이상적인 재료로 측정 정확도의 영원성을 보장합니다.

2. 우수한 내열충격성

열팽창 계수가 낮기 때문에 재료를 국부적으로 가열하면 내부에 발생하는 열 응력이 매우 작으므로 용융 실리카 판은 열 충격 저항이 매우 강합니다. 붉은 뜨거운 석영판을 찬물에 직접 부어도 폭발하지 않습니다. 이 특성으로 인해 다음 분야에서 널리 사용됩니다.

-레이저 보호 렌즈: 순간적인 고에너지 레이저 충격을 견딜 수 있습니다.

- 야금 관찰 창: 깨지지 않고 용광로의 고온 복사를 향합니다.

3. 포괄적인 사양 맞춤화 기능

우리는 다양한 응용 분야에 크기, 두께 및 공차에 대한 요구 사항이 크게 다르다는 것을 알고 있습니다. 우리는 거친 절단, 연삭, 연마에서 모따기 및 드릴링에 이르기까지 전체 공정에 대한 맞춤형 서비스를 제공하여 모든 석영 플레이트가 장비 인터페이스에 완벽하게 적용되도록 보장합니다.

열팽창 계수는 실제 응용에 어떤 영향을 줍니까?

열팽창 계수의 물리적 중요성

열팽창계수는 온도에 따라 변하는 재료의 치수 안정성을 반영합니다. 정밀 광학 및 반도체 제조에서 나노 규모 변형은 제품 수율 감소를 의미합니다. 당사의 용융 실리카 플레이트는 수산기(OH) 함량이 낮은 원료와 특수 어닐링 공정을 선택하여 내부 응력을 제거하므로 열팽창 곡선이 전체 온도 범위에서 평평하고 직선으로 유지됩니다.

일반적인 애플리케이션 시나리오

1. 반도체 제조 장비: CMP(화학기계적 연마) 장비용 연마판 및 리소그래피 장비용 기판으로, 웨이퍼 처리의 일관성을 보장하기 위해 극히 낮은 거시적 변형이 요구됩니다.

2. 항공우주 및 천문학 : 대형천문망원경의 거울기재로서 주야간 온도차가 크더라도 거울면의 형상을 그대로 유지하여 선명한 영상을 보장합니다.

3. 에너지·신화학산업 : 연료전지용 열간압착금형 및 고온반응기용 거울로서 고온, 고압하에서 치수안정성과 투명성을 유지하는 것이 필요합니다.

고객 적용 사례 : 반도체 장비 국산화 및 대체 지원

사례 배경:

한 반도체 장비 제조업체에서는 3세대 반도체(탄화규소 SiC)용 고온 이온 주입 장치를 개발하고 있습니다. 600℃ 이상의 고온 환경에서 석영창을 통해 웨이퍼를 광학적으로 정렬하는 장비이다. 원래 설계 계획에서는 특정 수입 브랜드의 석영 보드를 사용했지만 배송 시간이 길 뿐만 아니라 고온에서 정렬 마크 표류 문제가 반복적으로 발생하여 장비 디버깅이 3개월 동안 지연되었습니다.

요구사항 분석:

고객은 두께 10mm, 크기 300mm × 400mm의 용융 실리카 플레이트가 시급히 필요합니다. 요구사항:

- 상온에서 650℃까지의 열주기에서 평탄도 변화는 5미크론 미만입니다.

- 소재에 기포나 줄무늬가 없어 균일한 빛 투과를 보장합니다.

-진공챔버에 쉽게 장착하기 위해서는 4면을 잘게 갈아서 45° 각도로 모따기를 해야 합니다.

우리의 솔루션:

1. 재료 매칭 : 잔류 응력을 더욱 완화하기 위해 특수 열처리 공정을 거친 팽창 계수가 낮은 JGS2 등급 가스 정제 석영을 사용하는 것이 좋습니다.

2. 정밀 가공: 양면 연삭 및 연마 기술을 사용하여 원래의 평탄도는 1 마이크론/10mm ⊃2;에 도달합니다. 그 후 고객의 사용 환경을 시뮬레이션하기 위해 여러 번의 고온 어닐링 사이클을 수행하여 재료의 '사전 수축'이 완료되었는지 확인하고 650℃ 고온 단계의 실제 평탄도 변화가 3미크론 이내로 제어되었습니다.

3. 포장 보호 : 대형 박판의 깨지기 쉬운 특성에 대응하여 특수 충격 흡수 나무 상자와 정전기 흡착 필름을 설계하여 해상 운송 중 완벽한 배송을 보장합니다.

최종 효과:

고객이 석영판을 이온 주입 기계에 통합한 후 고온 정렬 시스템이 안정적으로 작동하고 이미지가 선명하고 왜곡이 없었습니다. 고객의 프로세스 디렉터는 다음과 같은 피드백을 제공했습니다. '이 석영 플레이트는 우리의 가장 골치 아픈 열 드리프트 문제를 해결하여 전체 기계의 원활한 통합을 가능하게 했습니다.' 

극한의 온도차 환경에서 바위처럼 안정적인 용융 실리카 유리판을 찾고 계시거나, 비표준 크기 및 초정밀 가공이 필요한 경우, 기술 조언이나 샘플 테스트를 위해 언제든지 당사에 문의하시기 바랍니다.

Luverre Quartz 는 다양한 석영 판 생산에 주력하는 제조업체로, 고객의 요구 사항에 따라 정사각형, 원형, 타원형 및 기타 특수 모양 디자인과 같은 다양한 크기와 모양의 맞춤형 석영 판을 생산할 수 있습니다. 가공에는 절단, 굽힘, 용접 등이 포함되며 투명 석영 판, 불투명 석영 판, 유백색 석영 판 등과 같은 다양한 색상을 사용할 수 있습니다.

왜 우리를 선택합니까?

1. 우리는 경험이 더 많습니다.

우리는 19년 이상의 석영 제품 생산 경험을 가지고 있습니다.

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우리는 석영 덩어리부터 석영 모래, 석영 제품까지 품질을 관리하며 다른 제조업체보다 품질 관리가 더 좋고 엄격합니다.

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우리는 석영 튜브, 석영 판, 석영 막대, 석영 창, 석영 도가니, 석영 보트, 석영 플랜지, 석영 비커, 석영 유리 도구 등을 포함하여 광범위한 고품질 석영 유리를 제조 및 판매할 수 있는 대형 연삭 플랫폼과 정밀 에칭 기계를 보유하고 있습니다.

5. 약 20년의 전문 경험

- 사반세기 동안 석영 제품 제조에 주력

- 기술팀의 평균 근무 경력이 15년 이상입니다.

6.글로벌 서비스 네트워크

- 당사의 제품은 유럽, 미국, 일본, 한국, 중동 등 40개 이상의 국가 및 지역으로 수출됩니다.

-다국어 기술 지원(영어, 독일어, 프랑스어, 스페인어, 러시아어, 일본어)

7. 유연한 협력 모드

소량 배치 시험 주문, 중장기 협력, 긴급 주문에 대한 긴급 생산을 지원하고 OEM/ODM 서비스를 제공합니다.