Placa de quartzo perfurada de 1-100 mm de diâmetro

Placa de quartzo perfurada com diâmetro de 1-100 mm, feita de vidro de quartzo de alta pureza, possui características como resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão e boa transparência. Tamanho preciso e abertura controlável, amplamente utilizado em campos de precisão, como semicondutores, energia fotovoltaica, instrumentos de laboratório, etc.

Você está enfrentando esses desafios?

P: Você está procurando placas de quartzo perfuradas que sejam resistentes ao calor, à corrosão e tenham dimensões precisas?  

Resposta: Nossa placa de quartzo perfurada personalizada pode funcionar de forma estável em altas temperaturas (até 1100 ℃) e ambientes corrosivos fortes, com uma precisão de diâmetro de furo de ± 0,05 mm, atendendo aos requisitos de instrumentos de precisão e indústrias exigentes.

P: Você está preocupado com a facilidade de rachaduras e o baixo rendimento das bordas perfuradas nas placas de quartzo?  

Resposta: Usamos corte de precisão a laser e tecnologia de reforço de bordas para garantir bordas lisas e sem rachaduras dos furos, com uma taxa de rendimento superior a 98%.

P: Você precisa de personalização flexível de abertura, tipo de furo e padrão de distribuição?  

Resposta: Oferecemos suporte à personalização de qualquer abertura na faixa de diâmetro de 1 a 100 mm e podemos obter projetos de perfuração para furos circulares, furos quadrados, furos irregulares e padrões de matriz complexos.

P: Você deseja encurtar o ciclo de personalização e reduzir os custos gerais?  

Resposta: Temos um processo de pré-processamento padronizado e um sistema de resposta rápida, com um ciclo customizado 30% menor que a média do setor, proporcionando uma solução completa e econômica.

Visão geral do produto: características principais de placas de quartzo perfuradas com precisão

A placa de quartzo perfurada é uma placa funcional feita de material de quartzo de alta pureza (conteúdo de SiO ₂ ≥ 99,9%), que é processada com precisão para formar aberturas, padrões de furos e conjuntos de furos específicos. O produto possui excelente estabilidade térmica, inércia química, transparência óptica e isolamento elétrico, e é amplamente utilizado em áreas como semicondutores, energia fotovoltaica, óptica, engenharia química e equipamentos de laboratório.

Vantagens do produto e parâmetros técnicos

1. Excelente desempenho do material

-Resistência a altas temperaturas: ponto de amolecimento de até 1730 ℃, temperatura de uso a longo prazo 1100 ℃

-Estabilidade térmica: O coeficiente de expansão térmica é tão baixo quanto 5,5 × 10 ⁻⁷/℃ e a resistência ao choque térmico é excelente

-Inércia química: resistente à maioria dos ácidos, bases e solventes orgânicos, exceto ácido fluorídrico e ácido fosfórico quente

-Características ópticas: Boa transmitância na faixa de comprimento de onda ultravioleta a infravermelho (170nm-2500nm)

-Desempenho elétrico: alta resistividade (>10 ⊃1;⁸Ω· cm a 20 ℃), excelente material de isolamento

2. Vantagens da tecnologia de usinagem de precisão

-Faixa de abertura: 1,0 mm-100 mm (suporta consulta personalizada para microporos abaixo de 0,5 mm)

-Precisão de processamento: tolerância de abertura ± 0,05 mm, precisão de posição ± 0,1 mm

-Qualidade da borda: lascamento da borda do furo <0,02 mm, rugosidade da superfície Ra ≤ 0,8 μ m

-Faixa de espessura: 0,5 mm-50 mm, suporta processamento integrado de furos grossos e finos

-Diversos tipos de furos: furos circulares, furos quadrados, furos ranhurados, furos irregulares e matrizes porosas

3. Flexibilidade na personalização de especificações

-Tamanhos padrão: Disponível em tamanhos padrão como 100 × 100 mm, 150 × 150 mm, 200 × 200 mm, etc.

-Tamanho personalizado: capaz de processar materiais de painel grande de até 1000 × 600 mm

-Design de furo: suporta matriz circular, matriz retangular, coordenadas personalizadas e design de abertura gradiente

-Tratamento de superfície: pode fornecer polimento, lixamento, revestimento (anti-reflexo, reflexivo, ITO, etc.) e outros tratamentos

-Processamento auxiliar: serviços de valor agregado, como chanframento, ranhuramento, polimento de bordas, gravação de logotipo, etc.

Cenários de aplicação da indústria

1. Indústria de Semicondutores e Fotovoltaica

-Bandejas transportadoras e placas de máscara no processamento de wafer

-Substrato de precisão para tela de impressão de células fotovoltaicas

-Janelas de observação e defletores para fornos de difusão e equipamentos PECVD

2. Óptica e Optoeletrônica

-Suporte de filtro e batente de abertura para instrumentos ópticos

-Placas de resfriamento e dissipação de calor para dispositivos laser e componentes de modelagem de feixe

-Suporte de amostra e placa de janela para instrumento de análise espectral

3. Equipamento químico e de laboratório

-Janela de observação e revestimento de reator em ambientes corrosivos

-Placa de isolamento e placa de suporte de amostra para forno de alta temperatura

-Componentes de células de fluxo e placas de separação para instrumentos analíticos

4. Aplicação de tecnologias emergentes

-Janela da câmara de vácuo do dispositivo experimental quântico

-Bandeja de substrato para equipamentos MOCVD

-Modelo de isolamento para componentes de alta temperatura impressos em 3D

Caso de inscrição do cliente (anônimo)

Caso 1: Fabricante alemão de equipamentos semicondutores

-Requisito: Uma placa de quartzo com furo circular de precisão com diâmetro de 76,2 ± 0,03 mm é necessária para o sistema de alinhamento de wafer, exigindo coeficiente de expansão térmica extremamente baixo e transmissão de luz UV

-Solução: é usado material de sílica fundida de grau UV, a borda é polida após o corte a laser e o filme antirreflexo aprimorado é revestido (a transmissividade em 193 nm é> 99,5%)

-Resultado: O produto funcionou continuamente no dispositivo do cliente por 18 meses sem qualquer degradação de desempenho, ajudando o cliente a melhorar a precisão do alinhamento em 30%.

Caso 2: Laboratório de Novas Energias nos Estados Unidos

-Requisito: Para desenvolver um novo tipo de célula de combustível, é necessária uma placa de difusão de quartzo gradiente de múltiplas aberturas, com aberturas variando de 2 mm a 8 mm em uma distribuição de matriz hexagonal

-Solução: Projete uma matriz hexagonal de 216 furos, use processamento de programação de abertura gradiente e aplique tratamento de revestimento antiembaçante na superfície

-Resultado: A uniformidade da difusão do gás foi melhorada para mais de 95%, ajudando os clientes a aumentar a eficiência de P&D em 40%

Caso 3: Empresa Japonesa de Instrumentos Ópticos

-Requisito: Parada de abertura óptica de alta precisão, 12 furos circulares concêntricos, abertura mínima de 0,8 mm, rugosidade de borda necessária Ra<0,4 μ m

-Solução: Adotando processamento a laser de ultra precisão combinado com polimento químico para obter qualidade de borda submícron, com relatórios de inspeção separados para cada furo anexado

-Conquista: O produto substitui os componentes originais de aço inoxidável do cliente, melhora o desempenho óptico e reduz o peso em 60%, ganhando o prêmio anual de excelente fornecedor do cliente

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