今日の急速に発展している科学技術分野では、半導体材料の性能と品質は、電子機器の安定性と信頼性に直接関係しています。 2.2密度透明融合シリカ半導体ウェーハは、高性能材料として、精密光学、半導体製造、レーザー技術、マイクロエレクトロニクスの分野で幅広いアプリケーションを持っています。

材料特性

高度に透明：融合シリカは、特に紫外線領域で非常に高い光透過率を持っているため、精密な光学成分と高電力レーザーシステムに最適な材料になります。

熱安定性：この材料は熱膨張係数が非常に低いため、高温環境では寸法安定性を維持できます。これは、極端な条件下で動作する必要があるデバイスに不可欠です。

化学的不活性：融合シリカは、さまざまな環境での長期的な使用を保証するフッフル酸を除く化学物質とほとんど反応しません。

機械的強度：融合シリカは脆性材料ですが、特別な治療後に高い機械的強度を達成でき、さまざまな処理技術に適しています。

電気断熱材：優れた電気絶縁体として、融合シリカは高周波アプリケーションでうまく機能し、電流の漏れを効果的に防ぎ、回路の安全性を向上させます。

製造プロセス

2。さらに、冷却速度を正確に制御することにより、ウェーハの微細構造をさらに最適化し、その物理的および化学的特性を改善することができます。

アプリケーションフィールド

半導体産業：統合回路、太陽電池などの製造のための基質材料として使用されます。

- 精密光学：レンズ、プリズム、ウィンドウパネルなどの光学コンポーネントを作成するために使用されます。

レーザーテクノロジー：高出力レーザーのトランスミッションメディアまたはフォーカシング要素として使用されます。

科学研究：物理的および化学的実験で容器またはサンプルスタンドとして使用されます。

医療機器：内視鏡や顕微鏡などの医療画像装置で主要なコンポーネントを作成するために使用されます。

カスタマーサポートとサービス

製品選択ガイダンス、アプリケーションソリューション設計、アフターセールスメンテナンスサービスを含むがこれらに限定されない包括的な技術サポートを提供しています。特定のニーズについては、各顧客の独自のニーズが満たされるように、顧客の要件に応じて生産をカスタマイズすることもできます。

2.2密度透明融合シリカ半導体ウェーハは、優れたパフォーマンスと信頼性の高い品質により、多くのハイテクフィールドで選択された材料の1つになりました。標準仕様製品を探している場合でも、特別に調整されたソリューションが必要な場合でも、私たちはあなたにサービスを提供するためにここにいます。