Le substrat de silice fondue transparente UV de 8 à 500 mm d'épaisseur est un matériau de quartz synthétique de haute pureté, qui présente une excellente transmission de la lumière ultraviolette (UV) (185 nm ~ 2 500 nm), un coefficient de dilatation thermique extrêmement faible, une excellente résistance aux températures élevées (> 1 000 ℃) et une stabilité chimique. Ce produit convient aux environnements difficiles tels que les systèmes optiques de haute précision, les équipements laser et la fabrication de semi-conducteurs. Il peut fournir des épaisseurs standards (8 mm, 10 mm, 20 mm, etc.), ainsi que des spécifications ultra épaisses (jusqu'à 500 mm) ou ultra fines (personnalisables), pour répondre aux besoins particuliers de différentes industries.

À quels besoins fondamentaux ce substrat répond-il pour les utilisateurs ?

Pour les utilisateurs engagés dans la conception de systèmes optiques UV, la prise en charge d'équipements semi-conducteurs, l'intégration de systèmes laser ou la fabrication d'instruments de précision, la sélection d'un matériau de substrat présentant une transmission stable dans le spectre UV, une déformation thermique minimale et une forte résistance chimique a un impact direct sur la qualité d'imagerie des systèmes optiques, la stabilité opérationnelle de l'équipement et la fiabilité à long terme. Le substrat de quartz fondu transparent aux UV, d'une épaisseur de 8 à 500 mm, est spécialement conçu pour répondre à ces besoins : il assure une transmission efficace de la lumière UV à travers des matériaux de haute pureté, atténue les problèmes de déformation causés par les changements de température grâce à ses faibles propriétés de dilatation thermique et s'adapte aux différentes structures d'équipement et exigences d'installation grâce à des capacités de personnalisation flexibles, aidant les clients à obtenir une meilleure correspondance de matériaux et à réduire les coûts d'ajustement après l'installation pendant le processus de sélection des matériaux.

Principales caractéristiques et avantages

Transmission UV élevée : la transmission dans la plage de longueurs d'onde de 185 nm à 2 500 nm est > 90 %, adaptée aux applications ultraviolettes profondes (DUV) et ultraviolettes lointaines (VUV).

Résistance à haute température et stabilité thermique : capable de résister à des températures supérieures à 1 000 ℃, avec un coefficient de dilatation thermique extrêmement faible (5,5 × 10 ⁻⁷/℃), garantissant l'absence de déformation dans les environnements à haute température.

Inertie chimique : résistant à la corrosion acide et alcaline forte, adapté aux environnements difficiles tels que la gravure de semi-conducteurs et les capteurs chimiques.

Haute résistance mécanique : haute dureté (Mohs 7), résistance aux rayures, adaptée à une utilisation à long terme.

Fond à faible fluorescence : matériau de haute pureté (SiO ₂ ≥ 99,99 %), réduit les interférences optiques, adapté à l'analyse spectrale de précision.

Domaines d'application typiques

système optique laser

-Solution : les lasers haute puissance (tels que le laser CO₂ et le laser excimer) endommagent facilement le verre ordinaire, et le substrat en silice fondue résiste aux températures élevées et aux dommages causés par le laser, garantissant ainsi un fonctionnement stable à long terme du système optique.

-Spécifications applicables : Épaisseur 10-100 mm, surface polie avec une précision de λ/10, film antireflet en option (revêtement AR).

Technologie des semi-conducteurs et de la lithographie

-Solution : La machine de lithographie nécessite des matériaux UV hautement transparents et le substrat de quartz peut être personnalisé avec une surface ultra plate (rugosité <1 nm) pour éviter que la diffusion de la lumière n'affecte la précision du processus.

-Spécifications applicables : une épaisseur de 8 à 50 mm, carrée ou circulaire, peut être recouverte d'un film antireflet (bande DUV/VUV).

Stérilisation UV et matériel médical

-Problème résolu : l'équipement de stérilisation UV-C (254 nm) nécessite une fenêtre à haute transmission, un substrat de quartz sans bulles ni impuretés, pour garantir l'efficacité de la stérilisation.

-Spécifications applicables : épaisseur de 5 à 20 mm, peut être emballé comme fenêtre d'observation de chambre de stérilisation ou couvercle de protection de lampe.

Recherche et analyse spectrale

-Solution : La spectroscopie de fluorescence et la spectroscopie Raman nécessitent une faible interférence de fond, tandis que les substrats de quartz de haute pureté réduisent le bruit du signal.

-Spécifications applicables : Épaisseur de 8 à 500 mm, personnalisable pour les composants optiques transmissifs ou réfléchissants.

Service personnalisé

Personnalisation de la taille et de la forme

-Plage d'épaisseur : 8 ~ 500 mm (l'ultra épais peut être traité, l'ultra-fin peut atteindre 0,1 mm).

-Forme : circulaire, carrée, rectangulaire, irrégulière (telle que circulaire, polygonale).

-Tolérance dimensionnelle : ± 0,1 mm (standard), les exigences de haute précision peuvent être de ± 0,01 mm.

Traitement de surface et revêtement

-Qualité de polissage : conventionnel (60-40), précision (20-10), haute précision (λ/10 ou λ/20).

-Options de revêtement : film antireflet (AR), film réfléchissant (HR), film spectral, film résistant à la corrosion.

Exigences de traitement particulières

- Chanfreinage/inclinaison : empêche la fissuration des bords et facilite l'installation.

-Perçage/fente : utilisé pour la fixation mécanique ou l'intégration de systèmes optiques.

-Conception résistante aux hautes pressions: adaptée aux environnements sous vide ou à haute pression (tels que les industries aérospatiale et nucléaire).

Foire aux questions (FAQ)

Q1 : Quelles sont les propriétés optiques de ce substrat dans la gamme de longueurs d'onde de l'ultraviolet profond (DUV) ?

Nos substrats de quartz fondu aux UV offrent une excellente transmission sur la plage de longueurs d'onde de 185 nm à 2 100 nm et ne présentent aucune fluorescence dans la région ultraviolette profonde, ce qui les rend adaptés à la lithographie, à la transmission laser et aux systèmes optiques à haute énergie. Pour les applications haut de gamme, nous proposons du quartz synthétique de qualité UV pour répondre à des exigences plus strictes en matière de transmission et d'uniformité.

Q2 : Quelle est l’importance de la plage d’épaisseurs de 8 à 500 mm pour la personnalisation ?

Cette large gamme d'épaisseurs est conçue pour répondre aux exigences structurelles de diverses applications. Les substrats minces (par exemple, 8 à 20 mm) conviennent aux fenêtres optiques de haute précision et aux substrats de circuits à couches minces ; des substrats épais (par exemple, 50 à 500 mm) sont utilisés pour les composants structurels des équipements semi-conducteurs ou les composants de protection dans les systèmes laser haute puissance, offrant une résistance mécanique et une stabilité thermique plus élevées.

Q3 : Comment gérez-vous les demandes de dimensions non standard ou de formes spéciales ?

Nous proposons des services de personnalisation basés sur les dessins des clients. Qu'il s'agisse de pièces circulaires, carrées, polygonales ou de forme irrégulière nécessitant des fonctionnalités complexes telles que le perçage, le rainurage ou le chanfreinage, nous pouvons atteindre une précision de haute tolérance grâce aux technologies d'usinage CNC et de découpe laser.

Q4 : Quels niveaux de qualité de surface et de planéité peuvent être atteints ?

Les produits standards peuvent atteindre une qualité de surface de 20/10 pour les rayures et les piqûres, avec une planéité de surface meilleure que λ/10 à 633 nm. Un polissage de haute précision peut être appliqué sur demande pour garantir la cohérence et la stabilité des performances optiques.

Le substrat de silice fondue transparente aux UV de 8 à 500 mm d'épaisseur, avec ses excellentes performances optiques, sa résistance environnementale extrême et ses services de personnalisation flexibles, est devenu un choix idéal pour les systèmes optiques de haute précision. Nous pouvons fournir des solutions de niveau professionnel pour le traitement laser, la fabrication de semi-conducteurs et les expériences de recherche scientifique.

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