O substrato de sílica fundida transparente UV de 8-500 mm de espessura é um material de quartzo sintético de alta pureza, que possui excelente transmitância de luz ultravioleta (UV) (185 nm ~ 2500 nm), coeficiente de expansão térmica extremamente baixo, excelente resistência a altas temperaturas (> 1000 ℃) e estabilidade química. Este produto é adequado para ambientes agressivos, como sistemas ópticos de alta precisão, equipamentos a laser e fabricação de semicondutores. Ele pode fornecer espessuras padrão (8 mm, 10 mm, 20 mm, etc.), bem como especificações ultra grossas (até 500 mm) ou ultrafinas (personalizáveis), para atender às necessidades especiais de diferentes indústrias.

Quais são as principais necessidades que esse substrato atende aos usuários?

Para usuários envolvidos no projeto de sistemas ópticos UV, suporte a equipamentos semicondutores, integração de sistemas laser ou fabricação de instrumentos de precisão, a seleção de um material de substrato com transmitância estável no espectro UV, deformação térmica mínima e forte resistência química impacta diretamente a qualidade da imagem dos sistemas ópticos, a estabilidade operacional do equipamento e a confiabilidade a longo prazo. O substrato de quartzo fundido transparente UV com 8 a 500 mm de espessura foi projetado especificamente para atender a essas necessidades – ele garante uma transmissão eficiente de luz UV através de materiais de alta pureza, mitiga os desafios de deformação causados ​​por mudanças de temperatura com suas propriedades de baixa expansão térmica e se adapta a diferentes estruturas de equipamentos e requisitos de instalação por meio de recursos de personalização flexíveis, ajudando os clientes a obter uma melhor combinação de materiais e reduzir os custos de ajuste pós-instalação durante o processo de seleção de materiais.

Principais recursos e vantagens

Alta transmitância UV: A transmitância na faixa de comprimento de onda de 185 nm ~ 2500 nm é> 90%, adequada para aplicações ultravioleta profunda (DUV) e ultravioleta distante (VUV).

Resistência a altas temperaturas e estabilidade térmica: capaz de suportar temperaturas acima de 1000 ℃, com coeficiente de expansão térmica extremamente baixo (5,5 × 10 ⁻⁷/℃), garantindo nenhuma deformação em ambientes de alta temperatura.

Inércia química: resistente à forte corrosão ácida e alcalina, adequada para ambientes agressivos, como gravação de semicondutores e sensores químicos.

Alta resistência mecânica: alta dureza (Mohs 7), resistência a arranhões, adequada para uso a longo prazo.

Fundo de baixa fluorescência: Material de alta pureza (SiO ₂ ≥ 99,99%), reduz a interferência óptica, adequado para análise espectral de precisão.

Áreas de aplicação típicas

sistema óptico a laser

-Solução: Lasers de alta potência (como laser CO ₂ e laser excimer) são fáceis de danificar o vidro comum, e o substrato de sílica fundida é resistente a altas temperaturas e danos ao laser, garantindo uma operação estável a longo prazo do sistema óptico.

-Especificações aplicáveis: Espessura 10-100mm, superfície polida com uma precisão de λ/10, filme anti-reflexo opcional (revestimento AR).

Tecnologia de semicondutores e litografia

-Solução: A máquina de litografia requer materiais UV altamente transparentes, e o substrato de quartzo pode ser personalizado com uma superfície ultra plana (rugosidade <1 nm) para evitar que a dispersão da luz afete a precisão do processo.

-Especificações aplicáveis: Espessura de 8-50mm, quadrada ou circular, pode ser revestida com filme anti-reflexo (faixa DUV/VUV).

Esterilização UV e equipamentos médicos

-Problema resolvido: O equipamento de esterilização UV-C (254nm) requer uma janela de alta transmitância, substrato de quartzo sem bolhas ou impurezas, para garantir a eficiência da esterilização.

-Especificações aplicáveis: Espessura de 5-20 mm, pode ser embalada como janela de observação da câmara de esterilização ou tampa de proteção da lâmpada.

Pesquisa e Análise Espectral

-Solução: A espectroscopia de fluorescência e a espectroscopia Raman requerem baixa interferência de fundo, enquanto os substratos de quartzo de alta pureza reduzem o ruído do sinal.

-Especificações aplicáveis: Espessura de 8-500mm, personalizável para componentes ópticos transmissivos ou reflexivos.

Atendimento personalizado

Personalização de tamanho e forma

-Faixa de espessura: 8 ~ 500 mm (ultra grosso pode ser processado, ultrafino pode atingir 0,1 mm).

-Forma: circular, quadrada, retangular, irregular (como circular, poligonal).

-Tolerância dimensional: ± 0,1 mm (padrão), requisitos de alta precisão podem ser ± 0,01 mm.

Tratamento de superfície e revestimento

-Grau de polimento: convencional (60-40), precisão (20-10), alta precisão (λ/10 ou λ/20).

-Opções de revestimento: filme anti-reflexo (AR), filme reflexivo (HR), filme espectral, filme resistente à corrosão.

Requisitos especiais de processamento

-Chamfering/Sloping: evita rachaduras nas bordas e facilita a instalação.

-Perfuração/entalhe: utilizado para fixação mecânica ou integração de sistemas ópticos.

-Design resistente a alta pressão: adequado para ambientes de vácuo ou alta pressão (como indústrias aeroespaciais e nucleares).

Perguntas frequentes (FAQ)

Q1: Quais são as propriedades ópticas deste substrato na faixa de comprimento de onda ultravioleta profundo (DUV)?

Nossos substratos de quartzo fundido com UV oferecem excelente transmitância na faixa de comprimento de onda de 185 nm a 2.100 nm e não exibem fluorescência na região ultravioleta profunda, tornando-os adequados para litografia, transmissão de laser e sistemas ópticos de alta energia. Para aplicações de ponta, oferecemos quartzo sintético de grau UV para atender a requisitos mais rigorosos de transmitância e uniformidade.

P2: Qual é a importância da faixa de espessura de 8–500 mm para personalização?

Esta ampla faixa de espessura foi projetada para atender aos requisitos estruturais de diversas aplicações. Substratos finos (por exemplo, 8–20 mm) são adequados para janelas ópticas de alta precisão e substratos de circuitos de filme fino; substratos espessos (por exemplo, 50–500 mm) são usados ​​para componentes estruturais em equipamentos semicondutores ou componentes de proteção em sistemas laser de alta potência, proporcionando maior resistência mecânica e estabilidade térmica.

Q3: Como você lida com solicitações de dimensões não padronizadas ou formatos especiais?

Oferecemos serviços de personalização com base nos desenhos do cliente. Sejam peças circulares, quadradas, poligonais ou de formato irregular que exijam recursos complexos, como perfuração, ranhura ou chanfro, podemos alcançar precisão de alta tolerância por meio de tecnologias de usinagem CNC e corte a laser.

Q4: Que níveis de qualidade e planicidade da superfície podem ser alcançados?

Os produtos padrão podem atingir uma qualidade de superfície de 20/10 para arranhões e marcas, com planicidade de superfície melhor que λ/10 a 633 nm. O polimento de alta precisão pode ser aplicado mediante solicitação para garantir consistência e estabilidade no desempenho óptico.

O substrato de sílica fundida transparente UV de 8-500 mm de espessura, com seu excelente desempenho óptico, extrema resistência ambiental e serviços de personalização flexíveis, tornou-se uma escolha ideal para sistemas ópticos de alta precisão. Podemos fornecer soluções de nível profissional para processamento a laser, fabricação de semicondutores e experimentos de pesquisa científica.

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