Il substrato di silice fusa trasparente UV di spessore 8-500 mm è un materiale di quarzo sintetico di elevata purezza, che ha un'eccellente trasmissione della luce ultravioletta (UV) (185 nm ~ 2500 nm), coefficiente di dilatazione termica estremamente basso, eccellente resistenza alle alte temperature (> 1000 ℃) e stabilità chimica. Questo prodotto è adatto per ambienti difficili come sistemi ottici ad alta precisione, apparecchiature laser e produzione di semiconduttori. Può fornire spessori standard (8 mm, 10 mm, 20 mm, ecc.), nonché specifiche ultra spesse (fino a 500 mm) o ultra sottili (personalizzabili), per soddisfare le esigenze speciali di diversi settori.

Quali esigenze fondamentali soddisfa questo substrato per gli utenti?

Per gli utenti impegnati nella progettazione di sistemi ottici UV, nel supporto di apparecchiature a semiconduttore, nell'integrazione di sistemi laser o nella produzione di strumenti di precisione, la selezione di un materiale di substrato con trasmittanza stabile nello spettro UV, deformazione termica minima e forte resistenza chimica ha un impatto diretto sulla qualità dell'immagine dei sistemi ottici, sulla stabilità operativa delle apparecchiature e sull'affidabilità a lungo termine. Il substrato in quarzo fuso trasparente UV con spessore da 8 a 500 mm è progettato specificamente per soddisfare queste esigenze: garantisce un'efficiente trasmissione della luce UV attraverso materiali di elevata purezza, mitiga le sfide di deformazione causate dai cambiamenti di temperatura con le sue proprietà di bassa espansione termica e si adatta alle diverse strutture delle apparecchiature e ai requisiti di installazione attraverso capacità di personalizzazione flessibili, aiutando i clienti a ottenere una migliore corrispondenza dei materiali e a ridurre i costi di aggiustamento post-installazione durante il processo di selezione dei materiali.

Caratteristiche principali e vantaggi

Elevata trasmittanza UV: la trasmittanza nell'intervallo di lunghezze d'onda 185 nm ~ 2500 nm è> 90%, adatta per applicazioni nell'ultravioletto profondo (DUV) e nell'ultravioletto lontano (VUV).

Resistenza alle alte temperature e stabilità termica: capace di resistere a temperature superiori a 1000 ℃, con un coefficiente di dilatazione termica estremamente basso (5,5 × 10 ⁻⁷/℃), garantendo l'assenza di deformazioni in ambienti ad alta temperatura.

Inerzia chimica: resistente alla forte corrosione acida e alcalina, adatto per ambienti difficili come l'incisione di semiconduttori e sensori chimici.

Elevata resistenza meccanica: elevata durezza (Mohs 7), resistenza ai graffi, adatto per un uso a lungo termine.

Fondo a bassa fluorescenza: materiale ad elevata purezza (SiO ₂ ≥ 99,99%), riduce le interferenze ottiche, adatto per analisi spettrali di precisione.

Aree di applicazione tipiche

sistema ottico laser

-Soluzione: i laser ad alta potenza (come laser a CO ₂ e laser ad eccimeri) sono facili da danneggiare il vetro normale e il substrato di silice fusa è resistente alle alte temperature e ai danni del laser, garantendo un funzionamento stabile a lungo termine del sistema ottico.

-Specifiche applicabili: spessore 10-100 mm, superficie lucidata con una precisione di λ/10, pellicola antiriflesso opzionale (rivestimento AR).

Tecnologia dei semiconduttori e della litografia

-Soluzione: la macchina per litografia richiede materiali UV altamente trasparenti e il substrato di quarzo può essere personalizzato con una superficie ultra piatta (rugosità <1 nm) per evitare che la diffusione della luce influenzi l'accuratezza del processo.

-Specifiche applicabili: Lo spessore di 8-50 mm, quadrato o circolare, può essere rivestito con pellicola antiriflesso (banda DUV/VUV).

Sterilizzazione UV e apparecchiature mediche

-Problema risolto: l'apparecchiatura di sterilizzazione UV-C (254 nm) richiede una finestra ad alta trasmittanza, un substrato di quarzo senza bolle o impurità, per garantire l'efficienza della sterilizzazione.

-Specifiche applicabili: spessore di 5-20 mm, può essere confezionato come finestra di osservazione della camera di sterilizzazione o copertura di protezione della lampada.

Ricerca e analisi spettrale

-Soluzione: la spettroscopia di fluorescenza e la spettroscopia Raman richiedono una bassa interferenza di fondo, mentre i substrati di quarzo ad elevata purezza riducono il rumore del segnale.

-Specifiche applicabili: spessore di 8-500 mm, personalizzabile per componenti ottici trasmissivi o riflettenti.

Servizio personalizzato

Personalizzazione di dimensioni e forma

-Intervallo di spessore: 8~500 mm (l'ultra spesso può essere lavorato, l'ultra sottile può raggiungere 0,1 mm).

-Forma: circolare, quadrata, rettangolare, irregolare (come circolare, poligonale).

-Tolleranza dimensionale: ± 0,1 mm (standard), i requisiti di alta precisione possono essere ± 0,01 mm.

Trattamento superficiale e rivestimento

-Grado di lucidatura: convenzionale (60-40), precisione (20-10), alta precisione (λ/10 o λ/20).

-Opzioni di rivestimento: pellicola antiriflesso (AR), pellicola riflettente (HR), pellicola spettrale, pellicola resistente alla corrosione.

Requisiti di lavorazione speciali

-Smussatura/Inclinazione: previene la rottura dei bordi e facilita l'installazione.

-Foratura/scanalatura: utilizzata per il fissaggio meccanico o l'integrazione di sistemi ottici.

-Design resistente all'alta pressione: adatto per ambienti sotto vuoto o ad alta pressione (come le industrie aerospaziali e nucleari).

Domande frequenti (FAQ)

D1: Quali sono le proprietà ottiche di questo substrato nella gamma di lunghezze d'onda dell'ultravioletto profondo (DUV)?

I nostri substrati di quarzo fuso UV offrono un'eccellente trasmittanza nell'intervallo di lunghezze d'onda da 185 nm a 2100 nm e non mostrano fluorescenza nella regione dell'ultravioletto profondo, rendendoli adatti per litografia, trasmissione laser e sistemi ottici ad alta energia. Per applicazioni di fascia alta, offriamo quarzo sintetico di grado UV per soddisfare i requisiti più rigorosi di trasmittanza e uniformità.

D2: Qual è il significato della gamma di spessori da 8 a 500 mm per la personalizzazione?

Questa ampia gamma di spessori è progettata per soddisfare i requisiti strutturali di varie applicazioni. I substrati sottili (ad esempio, 8–20 mm) sono adatti per finestre ottiche ad alta precisione e substrati di circuiti a film sottile; substrati spessi (ad esempio, 50–500 mm) vengono utilizzati per componenti strutturali in apparecchiature a semiconduttore o componenti protettivi in ​​sistemi laser ad alta potenza, fornendo maggiore resistenza meccanica e stabilità termica.

Q3: Come gestite le richieste di dimensioni non standard o forme speciali?

Offriamo servizi di personalizzazione sulla base dei disegni del cliente. Che si tratti di parti circolari, quadrate, poligonali o di forma irregolare che richiedono caratteristiche complesse come foratura, scanalatura o smussatura, possiamo ottenere precisione ad alta tolleranza attraverso la lavorazione CNC e le tecnologie di taglio laser.

Q4: Quali livelli di qualità superficiale e planarità possono essere raggiunti?

I prodotti standard possono raggiungere una qualità superficiale di 20/10 per graffi e cavità, con una planarità superficiale migliore di λ/10 a 633 nm. Su richiesta è possibile applicare una lucidatura ad alta precisione per garantire coerenza e stabilità nelle prestazioni ottiche.

Il substrato in silice fusa trasparente UV da 8-500 mm di spessore, con le sue eccellenti prestazioni ottiche, l'estrema resistenza ambientale e i servizi flessibili di personalizzazione, è diventato la scelta ideale per i sistemi ottici ad alta precisione. Siamo in grado di fornire soluzioni di livello professionale per la lavorazione laser, la produzione di semiconduttori e gli esperimenti di ricerca scientifica.

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