En tant que matériau avec d'excellentes propriétés physiques et chimiques, de haute pureté Les tubes en quartz jouent un rôle crucial dans la fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans la technologie des dépôts chimiques à vapeur chimique améliorés par plasma.

Caractéristiques du tube de quartz de haute pureté

Le composant principal des tubes de quartz de haute pureté est le dioxyde de silicium (SiO2), qui peut être obtenu par un processus spécial de préparation des matériaux.

Ce matériau a les propriétés significatives suivantes:

Haute pureté: réduit efficacement le contenu des impuretés dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, améliorant les performances et la stabilité de l'appareil.

Stabilité à haute température: peut résister aux températures allant jusqu'à 1200 ° C, et n'est pas sujet à la déformation ou à la fissuration à des températures élevées, assurant la fiabilité et la stabilité du processus de fabrication.

Résistance à la corrosion: il a une excellente résistance à l'acide et aux alcalins, à la résistance à l'oxydation et à la résistance à la corrosion, et peut fonctionner dans divers environnements difficiles tels que des acides forts, des alcalis puissants et des gaz très oxydants, protégeant efficacement les dispositifs semi-conducteurs.

Propriétés optiques exceptionnelles: il a une bonne transmittance de la lumière et peut pénétrer la plupart des spectres ultraviolets, visibles et proche infrarouge, fournissant des matériaux optiques de haute qualité pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.

Introduction à la technologie PECVD

Le PECVD (dépôt de vapeur chimique amélioré plasma) est une technologie de dépôt de couches mince couramment utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il combine les principes de base du dépôt chimique de vapeur (CVD) avec la technologie des plasma pour produire des films minces de haute qualité et contrôler précisément leurs propriétés. Par rapport à la technologie CVD traditionnelle, PECVD utilise du plasma pour améliorer l'efficacité du dépôt, permettant le dépôt de matériaux à des températures plus basses.

Dans le processus PECVD, un plasma à basse température sous basse pression déclenche une décharge de lueur à la cathode de la chambre de dépôt. L'échantillon est chauffé à une température réglée par un dispositif de chauffage et une quantité spécifique de gaz de processus est introduite. Ces gaz subissent diverses réactions chimiques sous l'action du plasma et forment enfin un film mince solide à la surface de l'échantillon.

Application du tube de quartz de haute pureté dans PECVD

Matériau de paroi de la chambre de réaction:

Le Le tube de quartz de haute pureté peut être utilisé comme matériau mural de la chambre de réaction dans le processus PECVD. En raison de son excellente résistance à la corrosion et de sa stabilité à haute température, il peut bien résister à l'érosion de la température élevée et du gaz corrosif et assurer la pureté et la précision de la chambre de réaction.

Électrodes et radiateurs:

Dans les systèmes PECVD, les tubes de quartz de haute pureté peuvent également être utilisés comme électrodes et radiateurs. Ses bonnes propriétés électriques et sa stabilité à haute température lui permettent de fonctionner de manière stable dans un champ électrique élevé et des environnements à haute température, assurant la progression fluide du processus de dépôt.

Matériel de fenêtre:

Des tubes en quartz de haute pureté peuvent également être utilisés comme matériaux de fenêtre dans les processus d'implantation ionique. Dans le processus PECVD, les matériaux de fenêtre doivent protéger le vide et la résistance à la corrosion de l'équipement, et les tubes de quartz de haute pureté ne répondent qu'à ces exigences.

Améliorer l'efficacité et la qualité des dépôts:

En raison de l'excellente transmittance lumineuse des tubes de quartz de haute pureté, la distribution uniforme et la réaction suffisante du gaz de réaction dans le plasma peuvent être assurées, améliorant ainsi l'efficacité de dépôt. Dans le même temps, l'utilisation de matériaux de haute pureté réduit également l'influence des impuretés sur la qualité du film, améliorant l'uniformité et les performances du film.

L'importance de remplacer régulièrement les tubes en quartz

Pendant le processus PECVD, une couche de Sinx et d'autres substances précipitera sur la paroi extérieure du tube de quartz à mesure que le temps de service augmente. Cette couche de sédiments affectera l'effet d'excitation du tube de quartz, qui à son tour affecte la qualité et l'efficacité du film déposé. Par conséquent, le remplacement régulier des tubes en quartz à haute pureté est une mesure importante pour assurer la stabilité du processus PECVD et la qualité du film.

L'application du tube de quartz de haute pureté dans la technologie PECVD est d'une importance irremplaçable. Ses excellentes propriétés physiques et chimiques lui permettent de fonctionner de manière stable à haute température, à un champ électrique élevé et à un environnement corrosif, assurant le bon progrès du processus de dépôt et la haute qualité du film.

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