Come materiale con eccellenti proprietà fisiche e chimiche, alta purezza I tubi di quarzo svolgono un ruolo cruciale nella produzione di semiconduttori, in particolare nella tecnologia di deposizione di vapore chimica (PECVD) potenziata dal plasma.

Caratteristiche del tubo in quarzo ad alta purezza

Il componente principale dei tubi in quarzo ad alta purezza è il biossido di silicio (SIO2), che può essere ottenuto attraverso un processo di preparazione del materiale speciale.

Questo materiale ha le seguenti proprietà significative:

Elevata purezza: riduce efficacemente il contenuto di impurità nel processo di produzione dei semiconduttori, migliorando le prestazioni e la stabilità del dispositivo.

Stabilità ad alta temperatura: può resistere a temperature fino a 1200 ° C e non è soggetto a deformazioni o cracking ad alte temperature, garantendo l'affidabilità e la stabilità del processo di produzione.

Resistenza alla corrosione: ha un'eccellente resistenza all'acido e alcalino, alla resistenza all'ossidazione e alla resistenza alla corrosione e può funzionare in vari ambienti difficili come acidi forti, alcali forti e gas altamente ossidanti, proteggendo efficacemente i dispositivi a semiconduttore.

Proprietà ottiche eccezionali: ha una buona trasmittanza della luce e può penetrare nella maggior parte degli spettri ultravioletti, visibili e a infrarossi vicini, fornendo materiali ottici di alta qualità per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore.

Introduzione alla tecnologia PECVD

PECVD (deposizione di vapore chimico migliorato al plasma) è una tecnologia di deposizione di film sottile comunemente utilizzata nel settore dei semiconduttori. Combina i principi di base della deposizione di vapore chimico (CVD) con la tecnologia plasmatica per produrre film sottili di alta qualità e controllare con precisione le loro proprietà. Rispetto alla tecnologia CVD tradizionale, PECVD utilizza il plasma per migliorare l'efficienza della deposizione, consentendo la deposizione di materiale a temperature più basse.

Nel processo PECVD, un plasma a bassa temperatura a bassa pressione innesca una scarica luminosa nel catodo della camera di deposizione. Il campione viene riscaldato a una temperatura impostata da un dispositivo di riscaldamento e viene introdotta una quantità specifica di gas di processo. Questi gas subiscono varie reazioni chimiche sotto l'azione del plasma e infine formano un solido film sottile sulla superficie del campione.

Applicazione del tubo in quarzo ad alta purezza in PECVD

Materiale della parete della camera di reazione:

IL Il tubo al quarzo ad alta purezza può essere utilizzato come materiale a parete della camera di reazione nel processo PECVD. Grazie alla sua eccellente resistenza alla corrosione e alla stabilità ad alta temperatura, può resistere all'erosione di alte temperature e gas corrosivo e garantire la purezza e l'accuratezza della camera di reazione.

Elettrodi e riscaldatori:

Nei sistemi PECVD, i tubi al quarzo ad alta purezza possono anche essere utilizzati come elettrodi e riscaldatori. Le sue buone proprietà elettriche e la stabilità ad alta temperatura le consentono di funzionare stabilmente in ambienti elevati di campo elettrico e ad alta temperatura, garantendo il progresso regolare del processo di deposizione.

Materiale della finestra:

I tubi al quarzo ad alta purezza possono anche essere utilizzati come materiali per finestre nei processi di impianto ionico. Nel processo PECVD, i materiali della finestra devono proteggere il vuoto e la resistenza alla corrosione delle attrezzature e i tubi al quarzo ad alta purezza soddisfano questi requisiti.

Migliorare l'efficienza e la qualità della deposizione:

A causa dell'eccellente trasmittanza della luce dei tubi di quarzo ad alta purezza, la distribuzione uniforme e la reazione sufficiente del gas di reazione nel plasma possono essere garantite, migliorando così l'efficienza della deposizione. Allo stesso tempo, l'uso di materiali di alta purezza riduce anche l'influenza delle impurità sulla qualità del film, migliorando l'uniformità e la performance del film.

L'importanza di sostituire regolarmente i tubi di quarzo

Durante il processo PECVD, uno strato di SINX e altre sostanze precipiteranno sulla parete esterna del tubo di quarzo all'aumentare del tempo di servizio. Questo strato di sedimenti influenzerà l'effetto di eccitazione del tubo di quarzo, che a sua volta influisce sulla qualità e l'efficienza del film depositato. Pertanto, la sostituzione regolare di tubi in quarzo ad alta purezza è una misura importante per garantire la stabilità del processo PECVD e la qualità del film.

L'applicazione del tubo in quarzo ad alta purezza nella tecnologia PECVD è di insostituibile importanza. Le sue eccellenti proprietà fisiche e chimiche consentono di funzionare stabilmente ad alta temperatura, alte campo elettrico e ambiente corrosivo, garantendo il regolare progresso del processo di deposizione e l'alta qualità del film.

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