Placa de vidrio de sílice fusionada de fabricación de semiconductores

La placa de vidrio de sílice fusionada utilizada en la fabricación de semiconductores es un material de alta tecnología, que se usa principalmente en semiconductores, fuente electroóptica, dispositivo de comunicación semiconductora, láser, instrumento óptico y otros campos. Este material es un vidrio especial hecho al derretir cuarzo natural puro (como cristal, arena de cuarzo, etc.) y que contiene solo dióxido de silicio como un solo componente. El vidrio de cuarzo se puede procesar de varias maneras. Según diferentes tipos, procesos y materias primas, se puede dividir en vidrio de silicato, vidrio de cuarzo, sílice fundida, sílice sintética fusionada, cuarzo fusionado, etc.

La microestructura del vidrio de cuarzo semiconductor se compone de una estructura tetraédrica del dióxido de silicio, con una alta energía de enlace químico SI-O, que resulta en una estructura compacta y propiedades únicas. Este tipo de vidrio tiene características ópticas significativas, como alta transmitancia, baja expansión térmica y excelentes propiedades espectrales, lo que lo hace adecuado para la fabricación de sustratos de fotomatería de alta precisión.

En la industria de los semiconductores, el proceso de fabricación y los requisitos de materia prima para el vidrio de cuarzo opaco de alta pureza son muy estrictos. El proceso de preparación incluye pasos como fusión, trabajo en caliente y trabajo en frío. El proceso de fusión incluye principalmente fusión eléctrica y refinación de gas, mientras que el proceso de fabricación para sintetizar vidrio de cuarzo incluye deposición de vapor químico (CVD), deposición de vapor químico en plasma (PCVD), etc.

El vidrio de sílice fusionado se usa ampliamente en la fabricación de semiconductores, como equipos de procesamiento por lotes y equipos de procesamiento de obleas. Este vidrio de cuarzo tiene las características de alta pureza y uniformidad de material, al tiempo que mantiene un bajo contenido de burbujas, lo cual es crucial para la precisión y la confiabilidad en los procesos de fabricación de semiconductores.

La placa de vidrio de sílice fusionada utilizada en la fabricación de semiconductores es un material básico clave. Su alta pureza, excelentes propiedades ópticas y estabilidad química lo hacen jugar un papel importante en la fabricación de semiconductores.

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