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Semiconductor Manufacturing Fused Silica Glassplatte
Die in der Halbleiterherstellung verwendete fusionierte Silica-Glasplatte ist ein High-Tech-Material, das hauptsächlich in Halbleiter, elektrooptischer Quelle, halbleitendem Kommunikationsgerät, Laser, optischem Instrument und anderen Feldern verwendet wird.
Luverre Quarz
99,99%
Innen mit Vakuum -PVC -Beutel innen und dann mit Luftblasenfilm gewickelt, äußerlich mit Holzbox.
gemäß den Anforderungen des Kunden
Semiconductor Manufacturing Fused Silica Glassplatte
Die in der Halbleiterherstellung verwendete fusionierte Silica-Glasplatte ist ein High-Tech-Material, das hauptsächlich in Halbleiter, elektrooptischer Quelle, halbleitendem Kommunikationsgerät, Laser, optischem Instrument und anderen Feldern verwendet wird. Dieses Material ist ein spezielles Glas, das durch Schmelzen von reinem natürlichen Quarz (z. B. Kristall, Quarzsand usw.) hergestellt wird und nur Siliziumdioxid als einzelne Komponente enthält. Quarzglas kann auf verschiedene Weise verarbeitet werden. Anhand verschiedener Typen, Prozesse und Rohstoffe kann es in Silikatglas, Quarzglas, fusioniertes Kieselsäure, synthetisches verschmolzenes Siliciumdioxid, Fusionsquarz usw. unterteilt werden.
Die Mikrostruktur des Halbleiterquarzglas besteht aus einer tetraedrischen Struktur von Siliziumdioxid mit einer hohen chemischen Bindungsergie mit hoher Si-O-Energie, was zu einer kompakten Struktur und einzigartigen Eigenschaften führt. Diese Art von Glas weist signifikante optische Eigenschaften wie hohe Sendung, niedrige thermische Expansion und hervorragende spektrale Eigenschaften auf, was sie für die hochpräzise Herstellung von Photomask-Substraten geeignet ist.
In der Halbleiterindustrie sind der Herstellungsprozess und der Rohstoffbedarf für hochreines undurchsichtiges Quarzglas sehr streng. Der Vorbereitungsprozess umfasst Schritte wie Schmelzen, heißes Arbeiten und kaltes Arbeiten. Das Schmelzprozess umfasst hauptsächlich elektrisches Schmelzen und Gasraffining, während das Herstellungsprozess zur Synthese von Quarzglas chemische Dampfablagerung (CVD), Plasma -chemische Dampfablagerung (PCVD) usw. umfasst.
Das fusionierte Silica -Glas wird bei der Herstellung von Halbleiter häufig verwendet, wie z. B. Batch -Verarbeitungsgeräte und Waferverarbeitungsgeräte. Dieses Quarzglas hat die Eigenschaften einer hohen Reinheit und der materiellen Gleichmäßigkeit, während ein niedriger Blasengehalt beibehalten wird, was für die Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei Halbleiterherstellungsprozessen von entscheidender Bedeutung ist.
Die in der Halbleiterherstellung verwendete fusionierte Silica -Glasplatte ist ein wichtiges Grundmaterial. Seine hohe Reinheit, hervorragende optische Eigenschaften und chemische Stabilität spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von Halbleitern.
Warum uns wählen?
1. Wir sind erfahrener.
Wir haben mehr als 18 Jahre Produktionserfahrung von Quarzartikeln.
2. Wir sind effizienter.
Wir beantworten die Anfragen der Kunden innerhalb von 24 Stunden und haben eine hocheffiziente Produktion, Ingenieure und Verkaufsteam.
3. Ihre Qualität ist garantierter.
Wir steuern die Qualität von Quarzklumpen bis hin zu Quarzsand und dann von Quarzprodukten, wir haben eine bessere und strengere Qualitätskontrolle als andere Hersteller.
4. Wir können schwierigere Quarzprodukte produzieren.
Wir haben große Schleifplattformen und Präzisionsetchmaschinen, mit denen wir große Größen von Quarzplatten, Röhrchen und hohen Präzisionsquarzartikeln erstellen können.
Semiconductor Manufacturing Fused Silica Glassplatte
Die in der Halbleiterherstellung verwendete fusionierte Silica-Glasplatte ist ein High-Tech-Material, das hauptsächlich in Halbleiter, elektrooptischer Quelle, halbleitendem Kommunikationsgerät, Laser, optischem Instrument und anderen Feldern verwendet wird. Dieses Material ist ein spezielles Glas, das durch Schmelzen von reinem natürlichen Quarz (z. B. Kristall, Quarzsand usw.) hergestellt wird und nur Siliziumdioxid als einzelne Komponente enthält. Quarzglas kann auf verschiedene Weise verarbeitet werden. Anhand verschiedener Typen, Prozesse und Rohstoffe kann es in Silikatglas, Quarzglas, fusioniertes Kieselsäure, synthetisches verschmolzenes Siliciumdioxid, Fusionsquarz usw. unterteilt werden.
Die Mikrostruktur des Halbleiterquarzglas besteht aus einer tetraedrischen Struktur von Siliziumdioxid mit einer hohen chemischen Bindungsergie mit hoher Si-O-Energie, was zu einer kompakten Struktur und einzigartigen Eigenschaften führt. Diese Art von Glas weist signifikante optische Eigenschaften wie hohe Sendung, niedrige thermische Expansion und hervorragende spektrale Eigenschaften auf, was sie für die hochpräzise Herstellung von Photomask-Substraten geeignet ist.
In der Halbleiterindustrie sind der Herstellungsprozess und der Rohstoffbedarf für hochreines undurchsichtiges Quarzglas sehr streng. Der Vorbereitungsprozess umfasst Schritte wie Schmelzen, heißes Arbeiten und kaltes Arbeiten. Das Schmelzprozess umfasst hauptsächlich elektrisches Schmelzen und Gasraffining, während das Herstellungsprozess zur Synthese von Quarzglas chemische Dampfablagerung (CVD), Plasma -chemische Dampfablagerung (PCVD) usw. umfasst.
Das fusionierte Silica -Glas wird bei der Herstellung von Halbleiter häufig verwendet, wie z. B. Batch -Verarbeitungsgeräte und Waferverarbeitungsgeräte. Dieses Quarzglas hat die Eigenschaften einer hohen Reinheit und der materiellen Gleichmäßigkeit, während ein niedriger Blasengehalt beibehalten wird, was für die Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei Halbleiterherstellungsprozessen von entscheidender Bedeutung ist.
Die in der Halbleiterherstellung verwendete fusionierte Silica -Glasplatte ist ein wichtiges Grundmaterial. Seine hohe Reinheit, hervorragende optische Eigenschaften und chemische Stabilität spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von Halbleitern.
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1. Wir sind erfahrener.
Wir haben mehr als 18 Jahre Produktionserfahrung von Quarzartikeln.
2. Wir sind effizienter.
Wir beantworten die Anfragen der Kunden innerhalb von 24 Stunden und haben eine hocheffiziente Produktion, Ingenieure und Verkaufsteam.
3. Ihre Qualität ist garantierter.
Wir steuern die Qualität von Quarzklumpen bis hin zu Quarzsand und dann von Quarzprodukten, wir haben eine bessere und strengere Qualitätskontrolle als andere Hersteller.
4. Wir können schwierigere Quarzprodukte produzieren.
Wir haben große Schleifplattformen und Präzisionsetchmaschinen, mit denen wir große Größen von Quarzplatten, Röhrchen und hohen Präzisionsquarzartikeln erstellen können.
