반도체 제조 융합 실리카 유리 플레이트

반도체 제조에 사용되는 융합 실리카 유리 플레이트는 주로 반도체, 전기 광원, 반도체 통신 장치, 레이저, 광학 기기 및 기타 필드에 사용되는 첨단 기술 물질입니다. 이 재료는 순수한 천연 석영 (크리스탈, 석영 모래 등)을 녹이고 단일 성분으로서 이산화 실리콘 만 함유하여 만든 특수 유리입니다. 석영 유리는 다양한 방식으로 처리 될 수 있습니다. 다른 유형, 공정 및 원료에 따르면, 실리케이트 유리, 석영 유리, 융합 실리카, 합성 융합 실리카, 융합 석영 등으로 나눌 수 있습니다.

반도체 석영 유리의 미세 구조는 높은 SI-O 화학적 결합 에너지를 갖는 이산화 실리콘의 사면체 구조로 구성되어 소형 구조와 독특한 특성을 초래한다. 이 유형의 유리는 높은 투과율, 낮은 열 팽창 및 우수한 스펙트럼 특성과 같은 상당한 광학적 특성을 가지므로 포토 마스크 기판의 고정밀 제조에 적합합니다.

반도체 산업에서, 고급 불투명 쿼츠 유리에 대한 제조 공정 및 원료 요구 사항은 매우 엄격합니다. 준비 과정에는 용융, 뜨거운 작업 및 냉 작업과 같은 단계가 포함됩니다. 용융 공정에는 주로 전기 용융 및 가스 정제가 포함되는 반면 석영 유리를 합성하기위한 제조 공정에는 화학 증기 증착 (CVD), 혈장 화학 증기 증착 (PCVD) 등이 포함됩니다.

융합 실리카 유리는 배치 가공 장비 및 웨이퍼 가공 장비와 같은 반도체 제조에 널리 사용됩니다. 이 석영 유리는 고순도 및 재료 균일 성의 특성을 가지며, 거품 함량이 낮은 반도체 제조 공정의 정확성과 신뢰성에 중요합니다.

반도체 제조에 사용되는 융합 실리카 유리 플레이트는 주요 기본 재료입니다. 고순도, 우수한 광학적 특성 및 화학적 안정성은 반도체 제조에 중요한 역할을합니다.

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