반도체 제조용 용융 실리카 유리판

반도체 제조에 사용되는 용융 실리카 유리판은 주로 반도체, 전기 광학 소스, 반도체 통신 장치, 레이저, 광학 기기 및 기타 분야에 사용되는 첨단 소재입니다. 순수 천연석영(수정, 석영모래 등)을 녹여 만든 특수유리로 이산화규소만을 단일 성분으로 함유하고 있습니다. 석영유리는 다양한 방법으로 가공될 수 있습니다. 다양한 유형, 공정 및 원료에 따라 규산염 유리, 석영 유리, 용융 실리카, 합성 용융 실리카, 용융 석영 등으로 나눌 수 있습니다.

반도체 석영 유리의 미세 구조는 이산화 규소의 사면체 구조로 구성되어 있으며 Si-O 화학 결합 에너지가 높아 구조가 치밀하고 독특한 특성을 갖습니다. 이러한 유형의 유리는 높은 투과율, 낮은 열팽창, 뛰어난 스펙트럼 특성 등 상당한 광학적 특성을 갖고 있어 포토마스크 기판의 고정밀 제조에 적합합니다.

반도체 산업에서는 고순도 불투명 석영 유리의 제조 공정 및 원자재 요구 사항이 매우 엄격합니다. 준비 공정에는 용융, 열간 가공, 냉간 가공 등의 단계가 포함됩니다. 용융 공정에는 주로 전기 용해와 가스 정제 공정이 포함되며, 석영 유리를 합성하는 제조 공정에는 화학 기상 증착(CVD), 플라즈마 화학 기상 증착(PCVD) 등이 포함됩니다.

용융 실리카 유리는 배치 처리 장비, 웨이퍼 처리 장비 등 반도체 제조에 널리 사용됩니다. 이 석영 유리는 반도체 제조 공정의 정확성과 신뢰성에 중요한 낮은 기포 함량을 유지하면서 높은 순도와 재료 균일성의 특성을 가지고 있습니다.

반도체 제조에 사용되는 용융 석영 유리판은 핵심 기초 소재입니다. 고순도, 우수한 광학적 특성 및 화학적 안정성으로 인해 반도체 제조에서 중요한 역할을 합니다.

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