Lastra di vetro di silice fusa per la produzione di semiconduttori
La lastra di vetro di silice fusa utilizzata nella produzione di semiconduttori è un materiale high-tech, utilizzato principalmente in semiconduttori, sorgenti elettro-ottiche, dispositivi di comunicazione semiconduttori, laser, strumenti ottici e altri campi.
Quarzo LUVERRE
99,99%
Interno con sacchetto in PVC sottovuoto e poi avvolto con pellicola a bolle d'aria, esterno con scatola di legno.
secondo il requisito del cliente
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Lastra di vetro di silice fusa per la produzione di semiconduttori
La lastra di vetro di silice fusa utilizzata nella produzione di semiconduttori è un materiale high-tech, utilizzato principalmente in semiconduttori, sorgenti elettro-ottiche, dispositivi di comunicazione semiconduttori, laser, strumenti ottici e altri campi. Questo materiale è un vetro speciale ottenuto fondendo puro quarzo naturale (come cristallo, sabbia di quarzo, ecc.) e contenente solo biossido di silicio come unico componente. Il vetro al quarzo può essere lavorato in vari modi. A seconda dei diversi tipi, processi e materie prime, può essere suddiviso in vetro silicato, vetro al quarzo, silice fusa, silice fusa sintetica, quarzo fuso, ecc.
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La microstruttura del vetro al quarzo semiconduttore è composta da una struttura tetraedrica di biossido di silicio, con un'elevata energia di legame chimico Si-O, che si traduce in una struttura compatta e proprietà uniche. Questo tipo di vetro ha caratteristiche ottiche significative come elevata trasmittanza, bassa espansione termica ed eccellenti proprietà spettrali, che lo rendono adatto alla produzione ad alta precisione di substrati di fotomaschere.
Nell'industria dei semiconduttori, il processo di produzione e i requisiti delle materie prime per il vetro al quarzo opaco di elevata purezza sono molto severi. Il processo di preparazione comprende fasi come la fusione, la lavorazione a caldo e la lavorazione a freddo. Il processo di fusione comprende principalmente la fusione elettrica e la raffinazione del gas, mentre il processo di produzione per la sintesi del vetro al quarzo comprende la deposizione chimica da vapore (CVD), la deposizione chimica da vapore al plasma (PCVD), ecc.

Il vetro di silice fusa è ampiamente utilizzato nella produzione di semiconduttori, come apparecchiature per la lavorazione in lotti e apparecchiature per la lavorazione dei wafer. Questo vetro al quarzo ha le caratteristiche di elevata purezza e uniformità del materiale, pur mantenendo un basso contenuto di bolle, che è fondamentale per la precisione e l'affidabilità nei processi di produzione dei semiconduttori.

La lastra di vetro di silice fusa utilizzata nella produzione di semiconduttori è un materiale di base fondamentale. La sua elevata purezza, le eccellenti proprietà ottiche e la stabilità chimica gli fanno svolgere un ruolo importante nella produzione di semiconduttori.
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