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Plaque de verre de silice fusionnée fabrication de semi-conducteurs

  • Plaque de verre de silice fusionnée fabrication de semi-conducteurs

  • La plaque de verre de silice fusionnée utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs est un matériau de haute technologie, qui est principalement utilisé dans les semi-conducteurs, la source électro-optique, le dispositif de communication semi-conducteur, le laser, l'instrument optique et d'autres champs.

  • Quartz de Luverre

  • 99,99%

  • Intérieur avec sac en PVC à vide, puis enveloppé de films d'air, à l'extérieur avec boîte en bois.

  • Selon l'exigence du client

Disponibilité:

Plaque de verre de silice fusionnée fabrication de semi-conducteurs


La plaque de verre de silice fusionnée utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs est un matériau de haute technologie, qui est principalement utilisé dans les semi-conducteurs, la source électro-optique, le dispositif de communication semi-conducteur, le laser, l'instrument optique et d'autres champs. Ce matériau est un verre spécial fabriqué en faisant fondre le quartz naturel pur (comme le cristal, le sable de quartz, etc.) et ne contenant que du dioxyde de silicium comme un seul composant. Le verre de quartz peut être traité de diverses manières. Selon différents types, processus et matières premières, il peut être divisé en verre de silicate, verre en quartz, silice fusionnée, silice fusionnée synthétique, quartz fondu, etc.


Plaque de verre de silice fusionnée fabrication de semi-conducteurs


La microstructure du verre de quartz semi-conducteur est composée d'une structure tétraédrique de dioxyde de silicium, avec une énergie de liaison chimique SI-O élevée, résultant en une structure compacte et des propriétés uniques. Ce type de verre a des caractéristiques optiques significatives telles que la transmittance élevée, la faible extension thermique et les excellentes propriétés spectrales, ce qui le rend adapté à la fabrication à haute précision de substrats de photomasque.


Dans l'industrie des semi-conducteurs, le processus de fabrication et les exigences de matières premières pour le verre de quartz opaque de haute pureté sont très stricts. Le processus de préparation comprend des étapes telles que la fusion, le travail chaud et le travail à froid. Le processus de fusion comprend principalement la fusion électrique et le raffinage de gaz, tandis que le processus de fabrication pour la synthèse du verre de quartz comprend le dépôt de vapeur chimique (CVD), le dépôt de philarisation chimique plasmatique (PCVD), etc.


Diverses formes de plaques de verre de quartz optique polies


Le verre de silice fusionné est largement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, tels que l'équipement de transformation par lots et l'équipement de transformation des plaquettes. Ce verre de quartz a les caractéristiques de la haute pureté et de l'uniformité des matériaux, tout en maintenant une faible teneur en bulles, ce qui est crucial pour la précision et la fiabilité des processus de fabrication de semi-conducteurs.


Propriétés de quartz


La plaque de verre de silice fusionnée utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs est un matériau de base clé. Sa haute pureté, ses excellentes propriétés optiques et sa stabilité chimique en font jouer un rôle important dans la fabrication de semi-conducteurs.


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