Placa de quartzo de 1-100 mm de diâmetro
A placa de quartzo de 1-100 mm de diâmetro é um material óptico e eletrônico de alta pureza, caracterizado principalmente por resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente transmitância de luz.
Quartzo LUVERRE
99,99%
Interior com saco de PVC a vácuo e depois embrulhado com filme bolha de ar, exterior com caixa de madeira.
conforme a exigência do cliente
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Placa de quartzo de 1-100 mm de diâmetro
A placa de quartzo de 1-100 mm de diâmetro é um material óptico e eletrônico de alta pureza, caracterizado principalmente por resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente transmitância de luz. É amplamente utilizado nas áreas de tecnologia de semicondutores, instrumentos ópticos de precisão e tecnologia laser, com qualidade estável e alta precisão de processamento.

Por que você precisa personalizar filmes ingleses fósseis?
P: Meu projeto requer materiais com resistência a altas temperaturas, excelente transparência e propriedades químicas estáveis. As folhas de quartzo podem atender a esses requisitos?
Resposta: Claro. Nossas placas de quartzo podem funcionar de forma estável a uma alta temperatura de 1200 ℃, com uma transmitância de mais de 93% e têm excelente resistência à corrosão para a grande maioria de ácidos e bases, tornando-as particularmente adequadas para cenários de observação de semicondutores, ópticos e de alta temperatura.
P: O equipamento de laboratório pode ser personalizado com componentes de quartzo de precisão de tamanhos específicos?
Resposta: Oferecemos serviços abrangentes de personalização para diâmetros que variam de 1 a 100 mm, com precisão de espessura de ± 0,01 mm. Oferecemos suporte para cortes circulares, quadrados e irregulares e podemos realizar processamento secundário, como revestimento, polimento e perfuração na superfície.
P: Os sistemas ópticos exigem uniformidade de material extremamente alta. Como podemos garantir isso?
Resposta: Usamos matérias-primas de quartzo sintético de alta pureza (com pureza de 99,99%), combinadas com tecnologia de usinagem de precisão CNC, para garantir que a uniformidade do índice de refração de cada placa de quartzo seja inferior a 5 × 10 ⁻⁶ e a distorção da frente de onda seja inferior a λ/10.
P: Podem ser apoiadas aquisições de I&D em pequena escala?
Resposta: Criamos um canal de suporte de P&D dedicado, onde até mesmo uma única peça pode ser personalizada, e fornecemos consulta de parâmetros técnicos, suporte para testes de amostra e serviços de otimização de soluções de aplicativos.

Parâmetros técnicos principais do produto
Propriedades dos materiais
-Opções de materiais: quartzo sintético (JGS1/JGS2), sílica fundida, quartzo ultravioleta
-Coeficiente de expansão térmica: 5,5 × 10 ⁻⁷/℃ (0-1000 ℃)
-Estabilidade térmica: temperatura de trabalho -200 ℃ a 1200 ℃
-Resistência química: resistente a todos os ácidos, exceto ácido fluorídrico, e resistente à maioria dos solventes químicos
Faixa de especificações
-Faixa de diâmetro: 1,0 mm-100,0 mm (suporta personalização em incrementos de 0,1 mm)
-Faixa de espessura: 0,1 mm-20,0 mm
-Nível de precisão:
-Grau padrão: Tolerância de diâmetro ± 0,05 mm, tolerância de espessura ± 0,02 mm
-Grau de precisão: tolerância de diâmetro ± 0,01 mm, tolerância de espessura ± 0,005 mm
-Grau de alta precisão: tolerância de diâmetro ± 0,005 mm, tolerância de espessura ± 0,002 mm
Opções de tratamento de superfície
-Grau de polimento: 80/50, 60/40, 40/20, 20/10, 10/5
-Serviços de revestimento: filme anti-reflexo (AR), filme reflexivo, filme espectral, filme resistente à corrosão
-Processamento de bordas: corte de precisão, polimento por chama, retificação e chanframento

Cenários principais de aplicativos
Fabricação de semicondutores e microeletrônica
- Substrato de máscara de máquina de litografia: placa de quartzo de alta planicidade (planicidade <0,5 μ m) usada para litografia ultravioleta profunda
-Transportador de processamento de wafer: Bandeja de quartzo resistente a altas temperaturas para transportar wafers de silício em processos de CVD e difusão
-Janela de observação do processo: janela de observação do tubo do forno de alta temperatura, monitoramento em tempo real do processo de sedimentação
Óptica e Fotônica
-Janela óptica do sistema laser: alto limite de danos (>10J/cm ⊃2;) lente protetora
-Componentes principais do espectrômetro: transmitância de banda larga infravermelha UV> 92%
-Substratos ópticos de precisão: utilizados na fabricação de interferômetros, espectrômetros e prismas
Instrumentos industriais e científicos
- Janela de alta temperatura: porta de observação para chaleira de reação e forno a vácuo
-Componentes do instrumento analítico: espectrômetro de massa, tubo cromatográfico de quartzo
-Janela de proteção do sensor: Proteção do sensor óptico em ambientes agressivos
Nova Energia e Novos Materiais
-Componentes de equipamentos fotovoltaicos: Máscaras para deposição de células solares de película fina
-Componentes da célula de combustível: janela de observação para testes de membrana de troca de prótons em alta temperatura

Cinco vantagens principais
1. Vantagens de desempenho material
-Ultra alta pureza: teor de OH<5ppm, quantidade total de impurezas metálicas<10ppm
-Excelente estabilidade térmica: capaz de suportar ciclos rápidos de 1000 ℃ até a temperatura ambiente sem quebrar
-Consistência óptica: O desvio do índice de refração de todo o lote de produtos é inferior a 0,0001%
2. Vantagens da tecnologia de processamento
- Usinagem CNC de precisão: utilizando centros de usinagem importados do Japão e Alemanha, com precisão de contorno de 0,003 mm
-Sistema de detecção inteligente: Cada produto passa por detecção completa de parâmetros usando interferômetros, espectrofotômetros e outros instrumentos Zygo
-Ambiente de produção limpo: os principais processos são concluídos em uma sala limpa Classe 100 para evitar poluição por partículas
3. Vantagens de serviços customizados
-Mecanismo de resposta rápida: Fornece soluções técnicas dentro de 48 horas e entrega amostras dentro de 7 a 15 dias
-Suporte técnico completo: suporte técnico durante todo o processo, desde a revisão do desenho até o teste da aplicação
-Quantidade mínima de pedido flexível: suporta uma quantidade mínima de pedido de uma peça, atendendo às necessidades de pesquisa e desenvolvimento, bem como de produção experimental
4. Vantagens custo-benefício
-Vantagem de aquisição em escala: Cooperação estratégica com as três principais fábricas de matérias-primas de quartzo do mundo para reduzir os custos das matérias-primas
-Experiência em otimização de processos: 15 anos de experiência em processamento de comércio exterior, resultando em aumento de 40% na eficiência dos processos
-Solução abrangente: Fornece serviço completo desde a seleção de materiais até o pós-processamento, reduzindo custos de gerenciamento de clientes

Casos de aplicação bem-sucedidos
Caso 1: Fabricante europeu de equipamentos semicondutores
Requisito: Substrato de máscara de quartzo para máquina de litografia ultravioleta extrema, com diâmetro de 85 mm, espessura de 6,35 mm, rugosidade superficial <0,5 nm e transmitância> 99,5% (@ comprimento de onda de 13,5 nm)
Solução: Usando quartzo sintético de altíssima pureza, tratamento de recozimento especial para reduzir o estresse interno, polimento ultra suave de superfície + revestimento de filme multicamadas
Resultado: O produto passou por 2.800 horas de testes contínuos pelo cliente, com distorção de frente de onda controlada dentro de λ/20, e foi fornecido de forma estável por 3 anos
Caso 2: Instituto Americano de Pesquisa a Laser
Requisito: Janela protetora para sistema de laser de femtosegundo de alta potência, diâmetro 50 mm, limite de dano> 15J/cm ⊃2; e matriz de microestrutura precisa ser usinada na superfície
Solução: Selecione material de quartzo com baixa densidade de defeitos e combine litografia de precisão + tecnologia de gravação de íons reativos para fabricar microestruturas de superfície
Resultado: o limite de dano da janela atinge 18J/cm ⊃2; e a precisão do tamanho da microestrutura é de ± 0,1 μm, ajudando os clientes a concluir vários estudos de ponta
Caso 3: Empresas Japonesas de Novas Energias
Requisito: Janela de observação de alta temperatura para testar células de combustível de óxido sólido, necessária para trabalhar continuamente por 5.000 horas em um ambiente de hidrogênio a 800 ℃
Solução: Desenvolver tecnologia de revestimento de supressão de cor induzida por hidrogênio, combinada com design especial de estrutura de vedação
Resultado: A janela de observação funcionou de forma estável durante mais de 6000 horas numa atmosfera de hidrogénio a 850 ℃, com uma diminuição de transparência inferior a 3%

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