La plaque de verre de quartz fondu à semi-conducteur de 0,1 à 10 mm d'épaisseur est un type spécial de verre industriel composé principalement de silice. Ce matériau est largement utilisé dans l’industrie des semi-conducteurs en raison de ses propriétés physiques et chimiques uniques.

Les caractéristiques du verre de quartz comprennent :

Résistance à haute température : le verre de silice fondu a un point de ramollissement d'environ 1 730 °C et peut fonctionner à des températures comprises entre 1 100 °C et 1 250 °C pendant une longue période, atteignant même 1 450 °C en peu de temps.

Résistance à la corrosion : en plus d'être sensible à l'acide fluorhydrique, le verre de quartz a une bonne résistance à la corrosion par d'autres acides, et sa résistance aux acides est 30 fois celle de la céramique et 150 fois celle de l'acier inoxydable.

Stabilité thermique : le verre de quartz a un très faible coefficient de dilatation thermique et peut résister à des changements de température sévères, comme être placé directement d'une température élevée dans de l'eau à température ambiante sans se fissurer.

Transmission lumineuse élevée : le verre de quartz a une bonne transmission dans toute la plage spectrale de l'ultraviolet à l'infrarouge, avec une transmission de plus de 95 % pour la lumière visible, en particulier dans la bande ultraviolette, où la transmission maximale dépasse 85 %.

Isolation électrique : La valeur de résistance du verre de quartz est 10 000 fois supérieure à celle du verre ordinaire, ce qui en fait un excellent matériau isolant électrique qui conserve de bonnes propriétés électriques même à haute température.

Ces propriétés du verre de quartz en font un matériau important pour l’industrie des semi-conducteurs, où il est utilisé pour fabriquer des équipements de traitement en vrac et des équipements de traitement de tranches uniques. Dans l'industrie des semi-conducteurs, le verre de quartz est utilisé pour fabriquer des nacelles en quartz, des bases en quartz, des supports en quartz, etc., ainsi que des revêtements, des plaques de valve, des plaques de pulvérisation, des supports de tranches et des capteurs pour les équipements de traitement de tranches uniques.