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0.1-10 mm 반도체 융합 웨이퍼 석영 유리 플레이트
0.1-10 mm 두께의 반도체 융합 웨이퍼 석영 유리 판은 주로 실리카로 만든 특수한 유형의 산업 유리입니다. 이 재료는 고유 한 물리적 및 화학적 특성으로 인해 반도체 산업에서 널리 사용됩니다.
루버르 석영
99.99%
진공 PVC 백으로 내부와 기포 필름으로 싸인 나무 상자와 함께 외부.
고객의 요구 사항에 따라
0.1-10 mm 두께의 반도체 융합 웨이퍼 석영 유리 판은 주로 실리카로 만든 특수한 유형의 산업 유리입니다. 이 재료는 고유 한 물리적 및 화학적 특성으로 인해 반도체 산업에서 널리 사용됩니다.
석영 유리의 특성은 다음과 같습니다.
고온 저항 : 융합 실리카 유리는 약 1730 ° C의 연화 지점을 가지며 오랫동안 1100 ° C에서 1250 ° C의 온도에서 작동 할 수 있으며, 짧은 시간 내에 1450 ° C에 도달하더라도.
부식 저항성 : 수경 플루오르 산에 민감한 것 외에도 석영 유리는 다른 산에 대한 부식성이 우수하며, 세라믹의 산성보다 30 배, 스테인레스 스틸의 150 배입니다.
열 안정성 : 석영 유리는 매우 작은 열 팽창 계수를 가지며, 균열없이 고온에서 실온으로 직접 배치하는 것과 같이 심각한 온도 변화를 견딜 수 있습니다.
고광전 투과율 : 석영 유리는 자외선에서 적외선에 이르기까지 전체 스펙트럼 범위에서 우수한 투과율을 가지며, 가시 광선의 경우, 특히 최대 투과율이 85%를 초과하는 가시 광선 밴드에서 95% 이상의 투과율이 있습니다.
전기 단열재 : 석영 유리의 저항 값은 일반 유리의 10,000 배이므로 고온에서도 우수한 전기 특성을 유지하는 우수한 전기 절연 재료입니다.
석영 유리의 이러한 특성은 반도체 산업의 중요한 재료로, 벌크 가공 장비와 단일 웨이퍼 처리 장비를 만드는 데 사용됩니다. 반도체 산업에서 석영 유리는 석영 보트, 석영베이스, 석영 캐리어 등뿐만 아니라 단일 웨이퍼 가공 장비를위한 라이너, 밸브 플레이트, 스프레이 플레이트, 웨이퍼 캐리어 및 센서를 만드는 데 사용됩니다.
0.1-10 mm 두께의 반도체 융합 웨이퍼 석영 유리 판은 주로 실리카로 만든 특수한 유형의 산업 유리입니다. 이 재료는 고유 한 물리적 및 화학적 특성으로 인해 반도체 산업에서 널리 사용됩니다.
석영 유리의 특성은 다음과 같습니다.
고온 저항 : 융합 실리카 유리는 약 1730 ° C의 연화 지점을 가지며 오랫동안 1100 ° C에서 1250 ° C의 온도에서 작동 할 수 있으며, 짧은 시간 내에 1450 ° C에 도달하더라도.
부식 저항성 : 수경 플루오르 산에 민감한 것 외에도 석영 유리는 다른 산에 대한 부식성이 우수하며, 세라믹의 산성보다 30 배, 스테인레스 스틸의 150 배입니다.
열 안정성 : 석영 유리는 매우 작은 열 팽창 계수를 가지며, 균열없이 고온에서 실온으로 직접 배치하는 것과 같이 심각한 온도 변화를 견딜 수 있습니다.
고광전 투과율 : 석영 유리는 자외선에서 적외선에 이르기까지 전체 스펙트럼 범위에서 우수한 투과율을 가지며, 가시 광선의 경우, 특히 최대 투과율이 85%를 초과하는 가시 광선 밴드에서 95% 이상의 투과율이 있습니다.
전기 단열재 : 석영 유리의 저항 값은 일반 유리의 10,000 배이므로 고온에서도 우수한 전기 특성을 유지하는 우수한 전기 절연 재료입니다.
석영 유리의 이러한 특성은 반도체 산업의 중요한 재료로, 벌크 가공 장비와 단일 웨이퍼 처리 장비를 만드는 데 사용됩니다. 반도체 산업에서 석영 유리는 석영 보트, 석영베이스, 석영 캐리어 등뿐만 아니라 단일 웨이퍼 가공 장비를위한 라이너, 밸브 플레이트, 스프레이 플레이트, 웨이퍼 캐리어 및 센서를 만드는 데 사용됩니다.
