A placa de vidro de quartzo wafer fundido semicondutor de 0,1-10 mm de espessura é um tipo especial de vidro industrial feito principalmente de sílica. Este material é amplamente utilizado na indústria de semicondutores devido às suas propriedades físicas e químicas únicas.

As características do vidro de quartzo incluem:

Resistência a altas temperaturas: O vidro de sílica fundida tem ponto de amolecimento de cerca de 1730 ° C e pode operar em temperaturas entre 1100 ° C e 1250 ° C por um longo período, chegando até a 1450 ° C em pouco tempo.

Resistência à corrosão: Além de ser sensível ao ácido fluorídrico, o vidro de quartzo apresenta boa resistência à corrosão a outros ácidos, e sua resistência aos ácidos é 30 vezes maior que a da cerâmica e 150 vezes maior que a do aço inoxidável.

Estabilidade térmica: O vidro de quartzo tem um coeficiente de expansão térmica muito pequeno e pode suportar mudanças severas de temperatura, como ser colocado diretamente de alta temperatura em água em temperatura ambiente sem rachar.

Alta transmitância de luz: O vidro de quartzo possui boa transmitância em toda a faixa espectral do ultravioleta ao infravermelho, com transmitância superior a 95% para luz visível, principalmente na faixa ultravioleta, onde a transmitância máxima ultrapassa 85%.

Isolamento elétrico: O valor de resistência do vidro de quartzo é 10.000 vezes maior que o do vidro comum, tornando-o um excelente material isolante elétrico que mantém boas propriedades elétricas mesmo em altas temperaturas.

Essas propriedades do vidro de quartzo o tornam um material importante para a indústria de semicondutores, onde é usado para fabricar equipamentos de processamento em massa e equipamentos de processamento de wafer único. Na indústria de semicondutores, o vidro de quartzo é usado para fazer barcos de quartzo, bases de quartzo, transportadores de quartzo, etc., bem como revestimentos, placas de válvula, placas de pulverização, transportadores de wafer e sensores para equipamentos de processamento de wafer único.