0,1-10 mm dikke halfgeleider gesmolten wafelkwartsglasplaat is een speciaal type industrieel glas dat voornamelijk uit silica bestaat. Dit materiaal wordt veel gebruikt in de halfgeleiderindustrie vanwege zijn unieke fysische en chemische eigenschappen.

De kenmerken van kwartsglas zijn onder meer:

Hoge temperatuurbestendigheid: Gesmolten silicaglas heeft een verwekingspunt van ongeveer 1730 ° C en kan lange tijd werken bij temperaturen tussen 1100 ° C en 1250 ° C, en kan in korte tijd zelfs 1450 ° C bereiken.

Corrosiebestendigheid: Kwartsglas is niet alleen gevoelig voor fluorwaterstofzuur, maar heeft ook een goede corrosieweerstand tegen andere zuren, en de zuurbestendigheid is 30 keer die van keramiek en 150 keer die van roestvrij staal.

Thermische stabiliteit: Kwartsglas heeft een zeer kleine thermische uitzettingscoëfficiënt en is bestand tegen ernstige temperatuurveranderingen, zoals rechtstreeks plaatsen van hoge temperaturen in water op kamertemperatuur zonder te barsten.

Hoge lichtdoorlatendheid: Kwartsglas heeft een goede doorlaatbaarheid in het gehele spectrale bereik van ultraviolet tot infrarood, met een doorlaatbaarheid van meer dan 95% voor zichtbaar licht, vooral in de ultraviolette band, waar de maximale doorlaatbaarheid groter is dan 85%.

Elektrische isolatie: De weerstandswaarde van kwartsglas is 10.000 keer die van gewoon glas, waardoor het een uitstekend elektrisch isolatiemateriaal is dat zelfs bij hoge temperaturen goede elektrische eigenschappen behoudt.

Deze eigenschappen van kwartsglas maken het tot een belangrijk materiaal voor de halfgeleiderindustrie, waar het wordt gebruikt voor de productie van bulkverwerkingsapparatuur en verwerkingsapparatuur voor afzonderlijke wafers. In de halfgeleiderindustrie wordt kwartsglas gebruikt voor het maken van kwartsboten, kwartsbases, kwartsdragers, enz., maar ook voor voeringen, klepplaten, sproeiplaten, waferdragers en sensoren voor verwerkingsapparatuur voor afzonderlijke wafers.