De De halfronde kwartsboot met een hoge transparantie van 100-800 mm is een krachtig draaggereedschap gemaakt van zeer zuiver kwartsglas (SiO₂-gehalte ≥ 99,99%) door middel van precisieverwerking. Het unieke halfronde structuurontwerp gecombineerd met de uitstekende fysische en chemische eigenschappen van kwartsmaterialen biedt een betrouwbare oplossing voor precisieproductiegebieden zoals halfgeleiders, fotovoltaïsche zonne-energie en LED's.

Kernfuncties

Uitstekende optische prestaties: met een transmissie van meer dan 92% (golflengtebereik van 200-2500 nm) zorgt het voor een uniforme energieoverdracht bij fotolithografie, diffusie en andere processen, waardoor procesfluctuaties worden verminderd.

Stabiliteit bij hoge temperaturen: het is lange tijd bestand tegen een omgeving met hoge temperaturen van 1100 ℃, met een gebruikstemperatuur op korte termijn tot 1450 ℃, en is geschikt voor extreme procesomstandigheden zoals snel thermisch gloeien (RTA).

Uitstekende chemische inertie: het heeft corrosieweerstand tegen alle zuren, basen en organische oplosmiddelen behalve fluorwaterstofzuur (HF), waardoor het risico van procesvervuiling wordt vermeden.

Structurele nauwkeurigheidsgarantie: door middel van CNC-bewerking is de maattolerantie ± 0,05 mm en de oppervlakteruwheid Ra ≤ 0,2 μm, waardoor een perfecte afstemming met de procesapparatuur wordt gegarandeerd.

Uitstekende mechanische sterkte: de buigsterkte bereikt 60-80 MPa en de thermische schokbestendigheid is uitstekend (Δ T ≥ 120 ℃ zonder breuk), waardoor de levensduur van het product wordt verlengd.

Technisch voordeel

Vergeleken met traditionele ronde kwartsboten verhoogt het halfronde ontwerp de laadcapaciteit met 30% terwijl de impact van randeffecten wordt verminderd

De ondersteunende structuur van het gepatenteerde ontwerp zorgt voor een meer uniforme verdeling van de spanning op de chip, waardoor de fragmentatiesnelheid tot onder 0,02% wordt verminderd

Oppervlakteplasmabehandelingstechnologie bereikt superhydrofobe eigenschappen, verbetert de reinigingsefficiëntie met 50% en vermindert het risico op procesonderbreking

Typische toepassingsscenario's

Op het gebied van de halfgeleiderproductie:

Lithografieproces: Als een waferbelichtingsdrager van 12 inch wordt deze gebruikt in combinatie met een diep-ultraviolette (DUV) lithografiemachine om een ​​uniforme coating van fotoresist te garanderen

Diffusieproces: het vervoeren van siliciumwafels in een fosfor/borium diffusieoven om nauwkeurige controle van de onzuiverheidsconcentratiegradiënt te bereiken (nauwkeurigheid ± 1%)

CVD-afzetting: als alternatief voor grafietboten wordt het rechtstreeks gebruikt voor het aanbrengen van siliciumnitridefilms in PECVD-apparatuur, waardoor het risico op metaalverontreiniging wordt verminderd

Toepassingen in de fotovoltaïsche industrie:

PERC-celproductie: het dragen van siliciumwafels van M6-formaat in het achterwaartse passivatieproces en het gebruik van ALD-apparatuur om Al ₂ O ∝/SiNx gestapelde afzetting te bereiken

TOPCon-batterijproductie: als boordiffusiedrager is deze bestand tegen POCl ∝ diffusieomgeving met hoge temperaturen en heeft een levensduur van meer dan 200 keer

HJT-batterijproces: Zorg voor schone dragers tijdens de fase van amorfe siliciumafzetting om filmuniformiteit te garanderen (± 1,5% dikteafwijking)

LED- en display-industrie:

MOCVD-apparatuur: Als een 4/6-inch saffiersubstraatdrager bereikt het een GaN epitaxiale laaggroeidikte-uniformiteit van <3%

Quantum dot-display: het dragen van glassubstraat in het coatingproces van QD-oplossingen om een ​​uniforme verspreiding van nanodeeltjes te garanderen

Micro LED Mass Transfer: als tijdelijke drager zorgt het voor een nauwkeurige positionering van miljoenen chips, met een overdrachtsrendement van meer dan 99,99%

Andere velden:

Elk speciaal scenario dat een hoge temperatuur, hoge zuiverheid en transparante omgeving vereist, zoals lasertechnologie, infraroodtoepassingen en verlichtingsindustrie.

Servicesysteem op maat

Afmetingen: L100-800 × B50-300 × H20-100 mm

Laadvermogen: 20-500 stuks (2-12 inch)

Doorlaatbaarheidsband: 190-3500 nm (aangepaste coating)

Oppervlaktebehandeling: antireflecterende coating/hydrofobe coating

Structurele vorm: dubbellaags/getrapt/met positioneringsgroefontwerp

Veelgestelde vragen (FAQ)

Wat is de maximale bedrijfstemperatuur van deze halfronde kwartsboot?

Ons product kan langdurig stabiel werken in omgevingen tot 1100 ℃, met een weerstand op korte termijn tot 1250 ℃, wat voldoet aan de eisen van de meeste processen bij hoge temperaturen.

Ondersteunt u niet-standaard maataanpassing?

Ja. Naast de standaardspecificaties van 100-800 mm, kunnen we de afmetingen volledig aanpassen op basis van uw tekeningen of specifieke parameters, waaronder boogradius, wanddikte en sleufposities.

Hoe komt de hoge transmissiefunctie specifiek ten goede aan het proces?

De hoge lichttransmissie zorgt ervoor dat de warmte van de verwarmingselementen gelijkmatig op het wafer- of monsteroppervlak straalt. Dit vermindert de thermische spanning, waardoor de uniformiteit en opbrengst van dunnefilmgroei wordt verbeterd.

Wat is de typische levertijd?

Standaardspecificaties zijn vaak op voorraad voor snelle verzending. Voor op maat gemaakte producten bedraagt ​​de productiecyclus doorgaans 7-15 werkdagen, afhankelijk van de complexiteit.

Kiezen voor onze halfronde kwartsboot met hoge transparantie gaat niet alleen over het kiezen van een product, maar ook over het kiezen van toewijding aan uitstekende kwaliteit, efficiënt vakmanschap en betrouwbare samenwerking. U kunt altijd contact met ons opnemen om uw specifieke behoeften te bespreken.

Luverre Quartz produceert en verkoopt een breed assortiment van hoge kwaliteit kwartsglas , inclusief kwartsbuizen, kwartsplaten, kwartsstaven, kwartsvensters, kwartskroezen, kwartsboten, kwartsflenzen, kwartsbekers, kwartsglasinstrumenten en meer. Wij kunnen voldoen aan allerlei maatwerkeisen voor kwartsglasproducten.