O O barco de quartzo semicircular de alta transparência de 100-800 mm é uma ferramenta de transporte de alto desempenho feita de vidro de quartzo de alta pureza (conteúdo de SiO ₂ ≥ 99,99%) por meio de processamento de precisão. Seu design exclusivo de estrutura semicircular, combinado com as excelentes propriedades físicas e químicas dos materiais de quartzo, fornece uma solução confiável para campos de fabricação de precisão, como semicondutores, energia fotovoltaica e LEDs.

Recursos principais

Excelente desempenho óptico: Com transmitância superior a 92% (faixa de comprimento de onda de 200-2500 nm), garante transferência uniforme de energia em fotolitografia, difusão e outros processos, reduzindo as flutuações do processo.

Estabilidade de alta temperatura: pode suportar um ambiente de alta temperatura de 1100 ℃ por um longo tempo, com uma temperatura de uso de curto prazo de até 1450 ℃, e é adequado para condições extremas de processo, como recozimento térmico rápido (RTA).

Excelente inércia química: Possui resistência à corrosão a todos os ácidos, bases e solventes orgânicos, exceto ácido fluorídrico (HF), evitando o risco de poluição do processo.

Garantia de precisão estrutural: Através da usinagem CNC, a tolerância dimensional é de ± 0,05 mm e a rugosidade superficial Ra é ≤ 0,2 μ m, garantindo uma combinação perfeita com o equipamento de processo.

Excelente resistência mecânica: A resistência à flexão atinge 60-80MPa e a resistência ao choque térmico é excelente (Δ T ≥ 120 ℃ sem ruptura), prolongando a vida útil do produto.

Vantagem técnica

Em comparação com os tradicionais barcos circulares de quartzo, o design semicircular aumenta a capacidade de carga em 30%, ao mesmo tempo que reduz o impacto dos efeitos de borda

A estrutura de suporte do design patenteado garante uma distribuição mais uniforme da tensão no chip, reduzindo a taxa de fragmentação para menos de 0,02%

A tecnologia de tratamento por plasma de superfície atinge propriedades superhidrofóbicas, melhora a eficiência da limpeza em 50% e reduz o risco de interrupção do processo

Cenários típicos de aplicação

Na área de fabricação de semicondutores:

Processo de litografia: Como transportador de exposição de wafer de 12 polegadas, é usado em conjunto com uma máquina de litografia ultravioleta profunda (DUV) para garantir revestimento uniforme de fotorresiste

Processo de difusão: Transporte de wafers de silício em um forno de difusão de fósforo/boro para obter controle preciso do gradiente de concentração de impurezas (precisão de ± 1%)

Deposição CVD: Como alternativa aos barcos de grafite, é utilizado diretamente para deposição de filmes de nitreto de silício em equipamentos PECVD, reduzindo o risco de contaminação metálica

Aplicações da indústria fotovoltaica:

Produção de células PERC: Transporte de wafers de silício de tamanho M6 no processo de passivação posterior e uso de equipamento ALD para obter deposição empilhada de Al ₂ O ∝/SiNx

Fabricação de bateria TOPCon: Como transportador de difusão de boro, ela pode suportar ambiente de difusão de alta temperatura POCl ∝ e tem uma vida útil de mais de 200 vezes

Processo de bateria HJT: Fornece transportadores limpos durante o estágio de deposição de silício amorfo para garantir a uniformidade do filme (± 1,5% de desvio de espessura)

Indústria de LED e Display:

Equipamento MOCVD: Como transportador de substrato de safira de 4/6 polegadas, atinge uniformidade de espessura de crescimento da camada epitaxial GaN de <3%

Display de pontos quânticos: Carregando substrato de vidro no processo de revestimento de solução QD para garantir dispersão uniforme de nanopartículas

Transferência de massa de micro LED: Como transportador temporário, consegue o posicionamento preciso de milhões de chips, com uma taxa de rendimento de transferência superior a 99,99%

Outros campos:

Qualquer cenário especial que exija alta temperatura, alta pureza e ambiente transparente, como tecnologia laser, aplicações infravermelhas e indústria de iluminação.

Sistema de atendimento personalizado

Dimensões: L100-800 × W50-300 × H20-100mm

Capacidade de carga: 20-500 peças (2-12 polegadas)

Banda de transmitância: 190-3500nm (revestimento personalizado)

Tratamento de superfície: revestimento anti-reflexo/revestimento hidrofóbico

Forma estrutural: camada dupla/escalonada/com design de ranhura de posicionamento

Perguntas frequentes (FAQ)

Qual é a temperatura máxima de operação deste barco semicircular de quartzo?

Nosso produto pode operar de forma estável em ambientes de até 1100°C por longos períodos, com resistência de curto prazo chegando a 1250°C, atendendo às demandas da maioria dos processos de alta temperatura.

Você oferece suporte à personalização de tamanho fora do padrão?

Sim. Além das especificações padrão de 100 a 800 mm, podemos personalizar totalmente as dimensões com base em seus desenhos ou parâmetros específicos, incluindo raio do arco, espessura da parede e posições das ranhuras.

Como o recurso de alta transmitância beneficia especificamente o processo?

A alta transmitância de luz garante que o calor dos elementos de aquecimento irradie uniformemente sobre o wafer ou a superfície da amostra. Isto reduz o estresse térmico, melhorando assim a uniformidade e o rendimento do crescimento de filmes finos.

Qual é o prazo típico de entrega?

As especificações padrão geralmente estão em estoque para envio rápido. Para produtos customizados, o ciclo de produção é geralmente de 7 a 15 dias úteis, dependendo da complexidade.

Escolher nosso barco de quartzo semicircular de alta transparência não se trata apenas de escolher um produto, mas também de escolher um compromisso com excelente qualidade, habilidade artesanal eficiente e cooperação confiável. Sinta-se à vontade para entrar em contato conosco a qualquer momento para discutir suas necessidades específicas.

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