抗血漿侵食半導体石英チューブ
抗血漿侵食半導体石英チューブは、主にプラズマ環境での機器コンポーネント保護のために、半導体製造プロセスで特別に使用される重要な材料です。
真空PVCバッグで内側に、その後、木製の箱と外側のエアバブルフィルムで包まれています。
可用性: | |
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抗血漿侵食半導体石英チューブ
抗血漿侵食半導体石英チューブは、主にプラズマ環境での機器コンポーネント保護のために、半導体製造プロセスで特別に使用される重要な材料です。通常、高純度の石英ガラスで作られており、プラズマ環境での耐食性と安定性を高めるために、特別な表面処理またはコーティングプロセスを受けます。
特性
- 高純度石英ガラス:高純度の二酸化シリコン(SIO₂)から作られた原材料として、優れた化学物質の安定性と低不純物含有量を備えており、高温および高真空環境での性能を確保しています。
-ANTIプラズマ侵食:ナノディアモンドコーティング、セラミックコーティング、フッ化物コーティングなどの特別なコーティングまたは表面処理技術を使用することにより、石英チューブの抗血漿侵食能力が大幅に改善されます。
- 高温耐性:半導体製造プロセスの要件を満たしている1000°から1600の範囲の高温環境で安定した動作が可能です。
- 低熱膨張係数:石英ガラスの熱膨張係数は非常に低く、寸法の安定性を維持し、温度が変化するときに熱応力を軽減できます。
- 高透明度:紫外線と可視光に対する透明性が良好であり、フォトリソグラフィや光化学反応などのプロセスに適しています。
応用
抗血漿侵食半導体石英チューブには、主に次の側面を含む半導体製造の分野で幅広い用途があります。
1。プラズマエッチング機器
- チャンバーコンポーネントの獲得:石英材料の血漿侵食を防ぐために、電極、ガス分布プレート、反応チャンバー壁などのエッチングチャンバー内の主要成分を保護するために使用されます。
- マスクとフォトマスクの取得:フォトリソグラフィープロセス中に、クォーツチューブを使用して、プラズマの損傷からフォトマスクを保護できます。
2。化学蒸気堆積(CVD)機器
- 堆積チャンバー:プラズマ強化化学蒸気堆積(PECVD)および低圧化学蒸気堆積(LPCVD)プロセス中に、堆積チャンバーを保護するために石英チューブを使用して、堆積プロセスの安定性と均一性を確保できます。
-GAS輸送パイプライン:輸送中のチャンバー材料との汚染または反応を防ぐために反応ガスを輸送するために使用されます。
3。リソグラフィ装備
-UV透明成分:石英チューブの高い透明性により、レンズ、マスク、軽パイプなどのリソグラフィ装置のUV透明成分に適しています。
- ホトリソグラフィマスク保護:リソグラフィプロセス中に、石英チューブを使用してリソグラフィマスクを保護し、マスクのプラズマ損傷を防ぐことができます。
4。半導体洗浄装置
- クリーニングチャンバー成分:プラズマ洗浄中に、クォーツチューブを使用して、クリーニングチャンバー内の主要成分を保護し、プラズマが石英材料を腐食させるのを防ぐことができます。
- 洗浄ガス分布システム:洗浄プロセスの効率と均一性を確保するために、洗浄ガスを輸送するために使用されます。
5。研究および実験機器
- プラズマ実験セットアップ:血漿物理学の研究と実験では、クォーツチューブを使用して、血漿反応チャンバーを構築し、血漿侵食から実験装置を保護できます。
- 材料の合成と処理:材料の合成と処理中に、クォーツチューブを使用して反応容器と加熱要素を保護し、実験の安定性と安全性を確保できます。
カスタマイズされた説明
抗血漿侵食半導体石英チューブは、ユーザーの特定のニーズに応じてカスタマイズできます。以下は、いくつかの一般的なカスタマイズオプションです。
1。サイズと形状
- インナーと外径:異なる内径と外径を持つ石英チューブは、ユーザーのニーズに応じてカスタマイズできます。内径の範囲は通常、数ミリメートルから数十センチメートルですが、外径は特定の用途に従って決定されます。
- 長さ:異なる長さの石英チューブは、機器のサイズとプロセスの要件に応じてカスタマイズできます。通常、数センチメートルから数メートルの長さです。
- シェイプ:標準的な円筒形のチューブに加えて、円錐形のチューブ、湾曲したチューブ、または複雑なプロセス要件を満たすようにカスタマイズすることもできます。
2。コーティングおよび表面処理
-ANTIプラズマコーティング:ナノディアモンドコーティング、セラミックコーティング、フッ化物コーティングなど、さまざまな抗血漿コーティングを選択して、クォーツチューブの耐食性と侵食抵抗を改善します。
- 表面の研磨:内側と外側の両方の表面は、表面の欠陥と残留不純物を減らし、石英チューブの光学性能と化学的安定性を改善するために、高精度研磨処理にさらされます。
-ANTI反射コーティング:光学的透明度が高い必要がある用途では、光反射損失を減らすために、クォーツチューブの表面にアンチ反射コーティングを適用できます。
3。純度と不純物の制御
- 高純度石英ガラス:非常に低い不純物含有量を備えた高純度の石英ガラスチューブを提供し、半導体製造プロセスで高い純度要件を確保します。
- 特異的な不純物制御:特定の不純物(水酸化物イオン、金属イオンなど)の含有量は、特定のプロセスの要件を満たすためにユーザーのニーズに応じて制御できます。
4。高温抵抗と耐食性
- 高温性能の最適化:特別な製造プロセスを使用することにより、石英チューブの高温抵抗が改善され、高温プラズマ環境での安定性が確保されます。
- 腐食抵抗:石英ガラス自体は化学物質の安定性が良好ですが、その腐食耐性は、強酸、強い塩基、有機溶媒などの環境に対処するために、ユーザーのニーズに応じてさらに最適化できます。
5。特別な要件
- カスタマイズされたパッケージ:ユーザーに応じてカスタマイズされたパッケージングおよび輸送ソリューションを提供する必要があります。輸送中に石英チューブの安全性を確保する必要があります。
- 品質認証:製品の品質と一貫性を確保するために、国際基準(ISO 9001など)に準拠する品質認定を提供できます。
- カスタマイズされたテスト:高温抵抗テスト、腐食抵抗テスト、プラズマ侵食抵抗テストなど、ユーザーのニーズに基づいてカスタマイズされたテストサービスを提供して、石英チューブのパフォーマンスが特定のプロセス要件を満たしていることを確認します。
アンチプラズマ侵食半導体石英チューブをカスタマイズすることにより、さまざまな半導体製造プロセスとアプリケーションの要件をより適切に満たし、機器の安定性とサービス寿命を改善しながら、半導体製造プロセスの効率と信頼性を確保します。
詳細については、お気軽にお問い合わせください。
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大規模な研削プラットフォームと精密エッチングマシンがあり、大規模なサイズの石英プレート、チューブ、高サイズの精度の石英アイテムを生産できます。
抗血漿侵食半導体石英チューブ
抗血漿侵食半導体石英チューブは、主にプラズマ環境での機器コンポーネント保護のために、半導体製造プロセスで特別に使用される重要な材料です。通常、高純度の石英ガラスで作られており、プラズマ環境での耐食性と安定性を高めるために、特別な表面処理またはコーティングプロセスを受けます。
特性
- 高純度石英ガラス:高純度の二酸化シリコン(SIO₂)から作られた原材料として、優れた化学物質の安定性と低不純物含有量を備えており、高温および高真空環境での性能を確保しています。
-ANTIプラズマ侵食:ナノディアモンドコーティング、セラミックコーティング、フッ化物コーティングなどの特別なコーティングまたは表面処理技術を使用することにより、石英チューブの抗血漿侵食能力が大幅に改善されます。
- 高温耐性:半導体製造プロセスの要件を満たしている1000°から1600の範囲の高温環境で安定した動作が可能です。
- 低熱膨張係数:石英ガラスの熱膨張係数は非常に低く、寸法の安定性を維持し、温度が変化するときに熱応力を軽減できます。
- 高透明度:紫外線と可視光に対する透明性が良好であり、フォトリソグラフィや光化学反応などのプロセスに適しています。
応用
抗血漿侵食半導体石英チューブには、主に次の側面を含む半導体製造の分野で幅広い用途があります。
1。プラズマエッチング機器
- チャンバーコンポーネントの獲得:石英材料の血漿侵食を防ぐために、電極、ガス分布プレート、反応チャンバー壁などのエッチングチャンバー内の主要成分を保護するために使用されます。
- マスクとフォトマスクの取得:フォトリソグラフィープロセス中に、クォーツチューブを使用して、プラズマの損傷からフォトマスクを保護できます。
2。化学蒸気堆積(CVD)機器
- 堆積チャンバー:プラズマ強化化学蒸気堆積(PECVD)および低圧化学蒸気堆積(LPCVD)プロセス中に、堆積チャンバーを保護するために石英チューブを使用して、堆積プロセスの安定性と均一性を確保できます。
-GAS輸送パイプライン:輸送中のチャンバー材料との汚染または反応を防ぐために反応ガスを輸送するために使用されます。
3。リソグラフィ装備
-UV透明成分:石英チューブの高い透明性により、レンズ、マスク、軽パイプなどのリソグラフィ装置のUV透明成分に適しています。
- ホトリソグラフィマスク保護:リソグラフィプロセス中に、石英チューブを使用してリソグラフィマスクを保護し、マスクのプラズマ損傷を防ぐことができます。
4。半導体洗浄装置
- クリーニングチャンバー成分:プラズマ洗浄中に、クォーツチューブを使用して、クリーニングチャンバー内の主要成分を保護し、プラズマが石英材料を腐食させるのを防ぐことができます。
- 洗浄ガス分布システム:洗浄プロセスの効率と均一性を確保するために、洗浄ガスを輸送するために使用されます。
5。研究および実験機器
- プラズマ実験セットアップ:血漿物理学の研究と実験では、クォーツチューブを使用して、血漿反応チャンバーを構築し、血漿侵食から実験装置を保護できます。
- 材料の合成と処理:材料の合成と処理中に、クォーツチューブを使用して反応容器と加熱要素を保護し、実験の安定性と安全性を確保できます。
カスタマイズされた説明
抗血漿侵食半導体石英チューブは、ユーザーの特定のニーズに応じてカスタマイズできます。以下は、いくつかの一般的なカスタマイズオプションです。
1。サイズと形状
- インナーと外径:異なる内径と外径を持つ石英チューブは、ユーザーのニーズに応じてカスタマイズできます。内径の範囲は通常、数ミリメートルから数十センチメートルですが、外径は特定の用途に従って決定されます。
- 長さ:異なる長さの石英チューブは、機器のサイズとプロセスの要件に応じてカスタマイズできます。通常、数センチメートルから数メートルの長さです。
- シェイプ:標準的な円筒形のチューブに加えて、円錐形のチューブ、湾曲したチューブ、または複雑なプロセス要件を満たすようにカスタマイズすることもできます。
2。コーティングおよび表面処理
-ANTIプラズマコーティング:ナノディアモンドコーティング、セラミックコーティング、フッ化物コーティングなど、さまざまな抗血漿コーティングを選択して、クォーツチューブの耐食性と侵食抵抗を改善します。
- 表面の研磨:内側と外側の両方の表面は、表面の欠陥と残留不純物を減らし、石英チューブの光学性能と化学的安定性を改善するために、高精度研磨処理にさらされます。
-ANTI反射コーティング:光学的透明度が高い必要がある用途では、光反射損失を減らすために、クォーツチューブの表面にアンチ反射コーティングを適用できます。
3。純度と不純物の制御
- 高純度石英ガラス:非常に低い不純物含有量を備えた高純度の石英ガラスチューブを提供し、半導体製造プロセスで高い純度要件を確保します。
- 特異的な不純物制御:特定の不純物(水酸化物イオン、金属イオンなど)の含有量は、特定のプロセスの要件を満たすためにユーザーのニーズに応じて制御できます。
4。高温抵抗と耐食性
- 高温性能の最適化:特別な製造プロセスを使用することにより、石英チューブの高温抵抗が改善され、高温プラズマ環境での安定性が確保されます。
- 腐食抵抗:石英ガラス自体は化学物質の安定性が良好ですが、その腐食耐性は、強酸、強い塩基、有機溶媒などの環境に対処するために、ユーザーのニーズに応じてさらに最適化できます。
5。特別な要件
- カスタマイズされたパッケージ:ユーザーに応じてカスタマイズされたパッケージングおよび輸送ソリューションを提供する必要があります。輸送中に石英チューブの安全性を確保する必要があります。
- 品質認証:製品の品質と一貫性を確保するために、国際基準(ISO 9001など)に準拠する品質認定を提供できます。
- カスタマイズされたテスト:高温抵抗テスト、腐食抵抗テスト、プラズマ侵食抵抗テストなど、ユーザーのニーズに基づいてカスタマイズされたテストサービスを提供して、石英チューブのパフォーマンスが特定のプロセス要件を満たしていることを確認します。
アンチプラズマ侵食半導体石英チューブをカスタマイズすることにより、さまざまな半導体製造プロセスとアプリケーションの要件をより適切に満たし、機器の安定性とサービス寿命を改善しながら、半導体製造プロセスの効率と信頼性を確保します。
詳細については、お気軽にお問い合わせください。
なぜ私たちを選ぶのですか?
1.私たちはより経験豊富です。
クォーツアイテムの生産経験は18年以上あります。
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3.私たちの品質がより保証されています。
クォーツの塊から石英砂、次にクォーツ製品まで品質を制御します。他のメーカーよりも優れた、より厳格な品質管理があります。
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大規模な研削プラットフォームと精密エッチングマシンがあり、大規模なサイズの石英プレート、チューブ、高サイズの精度の石英アイテムを生産できます。